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J-GLOBAL ID：201902221688484035   整理番号：19A1802857

配位子-基質分散は非活性化オレフィンの銅触媒ヒドロアミノ化を促進する【JST・京大機械翻訳】

Ligand-Substrate Dispersion Facilitates the Copper-Catalyzed Hydroamination of Unactivated Olefins

著者 (7件)： Lu Gang (Department of Chemistry, University of Pittsburgh, Pennsylvania, United States) ,  Liu Richard Y. (Department of Chemistry, Massachusetts Institute of Technology, Massachusetts, United States) ,  Yang Yang (Department of Chemistry, Massachusetts Institute of Technology, Massachusetts, United States) ,  Fang Cheng (Department of Chemistry, University of Pittsburgh, Pennsylvania, United States) ,  Lambrecht Daniel S. (Department of Chemistry, University of Pittsburgh, Pennsylvania, United States) ,  Buchwald Stephen L. (Department of Chemistry, Massachusetts Institute of Technology, Massachusetts, United States) ,  Liu Peng (Department of Chemistry, University of Pittsburgh, Pennsylvania, United States)
資料名： Journal of the American Chemical Society  (Journal of the American Chemical Society)
巻： 139  号： 46  ページ： 16548-16555  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0254A  ISSN： 0002-7863  CODEN： JACSAT  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 遷移金属触媒作用における配位子効果の現在の理解は,主に触媒-基質の結合及び空間間相互作用の解析に基づいており,後者は自然界で反発的であると一般に考えられている。配位子と基板との間の分散相互作用,魅力的な非共有結合相互作用の普遍的なタイプは,遷移金属触媒変換の文脈においてほとんど説明されない。ここでは,反応性に及ぼす異なるタイプの触媒-基質相互作用の影響を定量的に分析するための計算モデルを報告する。このモデルを用いて,不活性オレフィンの銅-(I)水素化物(CuH)触媒ヒドロアミノ化において,嵩高い二座ホスフィン配位子に基づく銅触媒の実質的に増強された反応性は,魅力的な配位子-基質分散相互作用に起因することを示した。これらの計算結果は,構造的に多様なホスフィン配位子を用いた一連のヒドロアミノ化反応にわたる速度論的研究により検証され,この過程の促進における嵩高いp-アリール基の重要な役割を明らかにした。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 速度論 ,  *基質 ,  反応性 ,  配位子効果 ,  *触媒 ,  相互作用 ,  *銅触媒 ,  水素化物 ,  遷移金属触媒 ,  *不活性化 ,  *アルケン
準シソーラス用語： ホスフィン配位子 ,  非共有結合 ,  分散相互作用 ,  *ヒドロアミノ化 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 反応の立体化学  (CF02130V) ,  有機りん化合物  (CF08040N)

タイトルに関連する用語 (7件)： 配位子 ,  基質 ,  非活性化 ,  オレフィン ,  銅触媒 ,  ヒドロアミノ化 ,  促進