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J-GLOBAL ID：201902222161091606   整理番号：19A2057331

異なる堆積形態のSiO2薄膜の自然時効特性【JST・京大機械翻訳】

Effects of aging treatment on properties of SiO2 thin films with different deposition technology

著者 (9件)： Jiang Yugang (天津津航技術物理研究所天津市薄膜光学重点実験室,天津300308;光電材料智能表面織構技術聯合実験室,天津300308) ,  Liu Xiaoli (空軍駐京津地区軍事代表室,天津,300308) ,  Liu Huasong (天津津航技術物理研究所天津市薄膜光学重点実験室,天津300308;光電材料智能表面織構技術聯合実験室,天津300308) ,  Wang Lishuan (天津津航技術物理研究所天津市薄膜光学重点実験室,天津300308;光電材料智能表面織構技術聯合実験室,天津300308) ,  Li Shida (天津津航技術物理研究所天津市薄膜光学重点実験室,天津300308;光電材料智能表面織構技術聯合実験室,天津300308) ,  Chen Dan (天津津航技術物理研究所天津市薄膜光学重点実験室,天津300308;光電材料智能表面織構技術聯合実験室,天津300308) ,  Liu Dandan (天津津航技術物理研究所天津市薄膜光学重点実験室,天津300308;光電材料智能表面織構技術聯合実験室,天津300308) ,  Jiang Chenghui (天津津航技術物理研究所天津市薄膜光学重点実験室,天津300308;光電材料智能表面織構技術聯合実験室,天津300308) ,  Ji Yiqin (天津津航技術物理研究所天津市薄膜光学重点実験室,天津300308;光電材料智能表面織構技術聯合実験室,天津300308)
資料名： Hongwai yu Jiguang Gongcheng  (Hongwai yu Jiguang Gongcheng)
巻： 48  号： 5  ページ： 266-271  発行年： 2019年 
JST資料番号： C2521A  ISSN： 1007-2276  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： SiO2薄膜は,光学薄膜の分野で用いられる重要な低屈折率材料の1つである。SiO2薄膜をSi基板上に蒸着し,それらの光学特性の自然時効特性を調べた。SiO2薄膜の光学特性を異なる貯蔵時間のエリプソメトリーでキャラクタライズし,時間の増加とともにEB-SiO2薄膜とIAD-SiO2薄膜の物理的厚さと光学的厚さは増加するが,IBS-SiO2薄膜は小さく,変化率は1.0%,2であった。3%と-0.2%。貯蔵時間が120日に達したとき,IBS-SiO2薄膜,EB-SiO2薄膜,およびIAD-SiO2薄膜の物理的厚さと光学的厚さは安定していた。実験結果は,IBS-SiO2薄膜の光学特性が最良であり,最外層保護薄膜の選択において,イオンビームスパッタリング技術でSiO2薄膜を堆積するべきであることを示した。Data from Wanfang. Translated by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： イオンビームスパッタリング ,  偏光解析法 ,  *薄膜 ,  光学的性質 ,  光学的厚さ ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： シリコンウエハ ,  光学薄膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： IBS-SiO2 thin film ,  EB-SiO2 thin film ,  IAD-SiO2 thin film ,  optical stability ,  optical constants

分類 (3件)： 薄膜一般  (BK14010X) ,  赤外・遠赤外領域の測光と光検出器  (BD07032W) ,  図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (5件)： 堆積 ,  形態 ,  SiO2 ,  薄膜 ,  自然時効