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J-GLOBAL ID：201902222591407069   整理番号：19A1039507

ぎ酸とその水素結合クラスタの絶対内殻光イオン化断面積の理論研究【JST・京大機械翻訳】

Theoretical study of the absolute inner-shell photoionization cross sections of the formic acid and some of its hydrogen-bonded clusters

著者 (3件)： Tenorio Bruno Nunes Cabral (Instituto de Quimica, Universidade Federal do Rio de Janeiro, UFRJ, Av. Athos da Silveira Ramos, 149, Rio de Janeiro, RJ 21941-909, Brazil) ,  Nascimento Marco Antonio Chaer (Instituto de Quimica, Universidade Federal do Rio de Janeiro, UFRJ, Av. Athos da Silveira Ramos, 149, Rio de Janeiro, RJ 21941-909, Brazil) ,  Rocha Alexandre Braga (Instituto de Quimica, Universidade Federal do Rio de Janeiro, UFRJ, Av. Athos da Silveira Ramos, 149, Rio de Janeiro, RJ 21941-909, Brazil)
資料名： Journal of Chemical Physics  (Journal of Chemical Physics)
巻： 150  号： 15  ページ： 154308-154308-9  発行年： 2019年 
JST資料番号： C0275A  ISSN： 0021-9606  CODEN： JCPSA6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ギ酸,HC00H,およびその小さな水素結合クラスタ,すなわち(HC00H)_2,HC00H_2+,HCOHOH+,およびHC00H H_3O+の内部殻絶対光吸収および光イオン化断面積を時間依存密度汎関数理論(TDDFT)レベルで計算し,結果を用いて炭素および酸素K端光イオン化断面積に及ぼすギ酸クラスタ化の影響を分析した。光吸収断面積を得るために,連続分数関数に基づく解析的連続手順において,正方積分(L2)基底関数系計算で得られた離散電子擬スペクトルを用いた。小さいギ酸クラスタに関する対称適合クラスタ配置間相互作用計算も酸素K端で行い,TDDFT結果を支持する離散遷移とイオン化ポテンシャルを帰属した。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： スペクトル ,  炭素 ,  酸素 ,  対称性 ,  イオン化ポテンシャル ,  *クラスタ ,  積分 ,  *水素結合 ,  光吸収 ,  クラスタ化 ,  基底関数系 ,  脂肪族カルボン酸
準シソーラス用語： 吸収断面積 ,  TDDFT ,  *イオン化断面積 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 分子化合物  (CE02000C) ,  分子と光子の相互作用  (BH06120R) ,  原子・分子のクラスタ  (BH09030O)

物質索引 (1件)： ギ酸

タイトルに関連する用語 (5件)： ぎ酸 ,  水素結合 ,  クラスタ ,  理論 ,  研究