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J-GLOBAL ID:201902222665661475   整理番号:19A0511165

空気スロット導波路におけるシリコンヘテロ構造空洞のベクトル近接場イメージング【JST・京大機械翻訳】

Vectorial Near-Field Imaging of Silicon Heterostructure Cavities in Air-Slot Waveguides
著者 (11件):
資料名:
巻: 29  号:ページ: 571-574  発行年: 2017年 
JST資料番号: T0721A  ISSN: 1041-1135  CODEN: IPTLEL  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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空気スロットフォトニックナノキャビティは,Siベースの光電子デバイスにおける外部発光体/吸収体のハイブリッド集積に対して多くの関連する利点を有する。なお,実験的な主要な欠点は,空気領域に局在するフォトニックモードの近接場偏光マッピングを実行することの困難さである。ここでは,モードが空気と誘電体領域の両方に局在する空気スロット導波路で実現されたシリコンヘテロ構造フォトニック結晶共振器の困難な場合において,近接場共鳴透過がナノ共振器モードの電場分布の高忠実度ベクトル画像を実現できることを実証した。Fanoイメージング技術を利用することにより,フォトニックモードの電場の面内独立偏光成分を識別し,制御した。金属被覆開口近接場プローブの使用は,深いサブ波長イメージング(λ/15)分解能で二つの偏光をマップすることを可能にする。Copyright 2019 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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光導波路,光ファイバ,繊維光学 

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