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J-GLOBAL ID：201902223069133897   整理番号：19A2528102

UV/ペルオキソ一硫酸塩プロセスによるフタル酸ジエチル酸化のラジカル化学 一次及び二次ラジカルの役割【JST・京大機械翻訳】

Radical chemistry of diethyl phthalate oxidation via UV/peroxymonosulfate process: Roles of primary and secondary radicals

著者 (14件)： Lei Yu (School of Resource and Environmental Engineering, Hefei University of Technology, Hefei 230009, PR China) ,  Lei Yu (Institute of Atmospheric Environment & Pollution Control, Hefei University of Technology, Hefei 230009, PR China) ,  Lu Jun (Center of Analysis & Measurement, Hefei University of Technology, Hefei 230009, PR China) ,  Zhu Mengyu (School of Resource and Environmental Engineering, Hefei University of Technology, Hefei 230009, PR China) ,  Zhu Mengyu (Institute of Atmospheric Environment & Pollution Control, Hefei University of Technology, Hefei 230009, PR China) ,  Zhu Mengyu (Key Laboratory of Nanominerals and Pollution Control of Anhui Higher Education Institutes, Hefei University of Technology, Hefei 230009, PR China) ,  Xie Jingjing (School of Resource and Environmental Engineering, Hefei University of Technology, Hefei 230009, PR China) ,  Xie Jingjing (Key Laboratory of Nanominerals and Pollution Control of Anhui Higher Education Institutes, Hefei University of Technology, Hefei 230009, PR China) ,  Peng Shuchuan (School of Resource and Environmental Engineering, Hefei University of Technology, Hefei 230009, PR China) ,  Peng Shuchuan (Institute of Atmospheric Environment & Pollution Control, Hefei University of Technology, Hefei 230009, PR China) ,  Peng Shuchuan (Key Laboratory of Nanominerals and Pollution Control of Anhui Higher Education Institutes, Hefei University of Technology, Hefei 230009, PR China) ,  Zhu Chengzhu (School of Resource and Environmental Engineering, Hefei University of Technology, Hefei 230009, PR China) ,  Zhu Chengzhu (Institute of Atmospheric Environment & Pollution Control, Hefei University of Technology, Hefei 230009, PR China) ,  Zhu Chengzhu (Key Laboratory of Nanominerals and Pollution Control of Anhui Higher Education Institutes, Hefei University of Technology, Hefei 230009, PR China)
資料名： Chemical Engineering Journal  (Chemical Engineering Journal)
巻： 379  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： D0723A  ISSN： 1385-8947  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： UV/ペルオキソ硫酸塩(PMS)プロセスは,ヒドロキシルラジカル(OH)と硫酸塩ラジカル(SO_4-)を形成し,微量汚染物質を分解する。これら二つのラジカルは水マトリックス成分の影響により二次ラジカル(例えばCl2-,CO3-及びCl-)に変換できる。レーザ閃光光分解を用いて,3つのPAEsとOH,SO4-,Cl2-,Cl-,CO3-の反応の二次速度定数をそれぞれ(3.5-4.4)×10-9,(4.9-5.6)×10-8,(1.1-1.3)×10-7,(1.8-2.0)×10-10,<1×10-6M-1s-1と決定した。次に,フタル酸ジエチル(DEP)をターゲット化合物として選択し,254nmのUV/PMSプロセスの間の分解のラジカル化学を研究した。DEP分解における水マトリックス成分の多重効果を調べた。アルカリ条件,塩化物,重炭酸塩及び天然有機物(NOM)はDEP分解を阻害したが,それらの影響はラジカル特異的であった。SO4-はアルカリ性条件,重炭酸塩およびNOMの負の効果に対して,OHよりも優れていたが,一方,OHはSO4-よりも塩化物による影響は少なかった。Clは1mM塩化物の存在下でDEP分解の12%を占めた。Cl_2-,CO_3-および1O_2はDEP酸化にほとんど寄与しなかったが,それらは変換中間体のさらなる酸化に関与している可能性があった。過渡状態中間体と定常状態生成物をそれぞれ時間分解分光法とGC-MSにより同定し,異なる水マトリックス中のDEPの分解経路を提案した。Copyright 2019 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 塩素 ,  *ラジカル ,  ヒドロキシルラジカル ,  ペルオキソ硫酸塩 ,  *硫酸塩 ,  GC-MS分析 ,  中間体 ,  反応機構 ,  炭酸水素塩 ,  塩化物 ,  *酸化 ,  過渡現象
準シソーラス用語： 定常状態 ,  速度定数 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： UV/ペルオキソ一硫酸塩(PMS) ,  PAE ,  水マトリックス成分 ,  ラジカル化学 ,  反応機構

分類 (2件)： 下水,廃水の化学的処理  (SC03050W) ,  用水の化学的処理  (SC02040E)

物質索引 (1件)： フタル酸ジエチル

タイトルに関連する用語 (7件)： ペルオキソ一硫酸塩 ,  プロセス ,  フタル酸ジエチル ,  酸化 ,  ラジカル ,  化学 ,  役割