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J-GLOBAL ID：201902223644384492   整理番号：19A2732426

材料の薄膜光学特性からの複雑な分散屈折率の計算【JST・京大機械翻訳】

Computing complex dispersive refractive indices from thin film optical properties of materials

著者 (7件)： Banerjee S. (Brillnics Japan Inc. (Japan)) ,  Takayanagi I. (Brillnics Japan Inc. (Japan)) ,  Mori K. (Brillnics Japan Inc. (Japan)) ,  Nakamura J. (Brillnics Japan Inc. (Japan)) ,  Cole J. B. (National Academy of Sciences (United States)) ,  Hoshino T. (Univ. of Tsukuba (Japan)) ,  Itoh M. (Univ. of Tsukuba (Japan))
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 11105  ページ： 111050T-12  発行年： 2019年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： CMOSイメージセンサ(CIS)画素のようなナノフォトニックデバイスは,半導体材料の多層積層により形成される。これらの材料の複素屈折率は光の波長とともに変化する。現在,フォトニックデバイスの産業開発は,光伝搬が有限差分時間領域(FDTD)のような数値法を用いてシミュレートされる設計段階を含んでいる。このようなシミュレーションは,構成材料の屈折率が正確に知られていることを必要とする。分散屈折率の実部と虚部を計算するために最も一般的に使用される方法はKramers-Kronig(K-K)積分の評価,あるいは誘電率の理論モデルの使用のいずれかに基づいている。これらの方法は,材料の薄膜の実験的に測定された反射率または透過率スペクトルに依存し,その屈折率を決定する。本論文の最初の部分では,遺伝的アルゴリズムに基づく最適化ルーチンと薄膜のコヒーレント反射率と透過率スペクトルを用いて,ある材料の分散屈折率の計算を記述した。このアプローチは,局所最適化技術に基づく以前の方法と異なり,大域的最適性を見出す。本論文の第二部では,K-K積分を評価し,誘電率のLorentzモデルを用いて,その虚数部からのローダミンBの屈折率の実数部を計算した。虚数部はローダミンBの薄膜の透過スペクトルから決定した。最近,CIS画素に一般的に用いられるオンチップカラーフィルタの分散屈折率を計算するために,類似の戦略を用いた。COPYRIGHT SPIE. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *薄膜 ,  透過率 ,  最適化 ,  コヒーレンス ,  スペクトル ,  積分 ,  画素 ,  *屈折率 ,  有限差分時間領域法 ,  誘電率 ,  虚数 ,  複素屈折率 ,  多層 ,  反射率
準シソーラス用語： フォトニックデバイス , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (4件)： 光デバイス一般  (BD06010L) ,  光物性一般  (BM08010A) ,  光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H) ,  固体プラズマ  (BM02160W)

タイトルに関連する用語 (3件)： 薄膜光学 ,  屈折率 ,  計算