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J-GLOBAL ID：201902224009811104   整理番号：19A0898671

誘電体共振メタ表面における共鳴トリミング【JST・京大機械翻訳】

Resonance Trimming in Dielectric Resonant Metasurfaces

著者 (3件)： Bar-David Jonathan (Department of Applied Physics, Benin School of Engineering and Computer Science, Center for Nanoscience and Nanotechnology, The Hebrew University of Jerusalem, Jerusalem, Israel) ,  Mazurski Noa (Department of Applied Physics, Benin School of Engineering and Computer Science, Center for Nanoscience and Nanotechnology, The Hebrew University of Jerusalem, Jerusalem, Israel) ,  Levy Uriel (Department of Applied Physics, Benin School of Engineering and Computer Science, Center for Nanoscience and Nanotechnology, The Hebrew University of Jerusalem, Jerusalem, Israel)
資料名： IEEE Journal of Selected Topics in Quantum Electronics  (IEEE Journal of Selected Topics in Quantum Electronics)
巻： 25  号： 3  ページ： ROMBUNNO.4700705.1-5  発行年： 2019年 
JST資料番号： W0734A  ISSN： 1077-260X  CODEN： IJSQEN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： メタ表面の場は急速に成長している。今日,メタ表面は人工光学材料の前に考えられている。メタ表面によって,ビーム成形,構造色,および偏光制御からタイトな集束,走査,空間およびスペクトルフィルタリングなどへの様々な応用のための光の特性を制御することが可能である。メタ表面の構築における主要な課題の一つは,それらの寸法に対する正確な制御とその結果としてのスペクトル応答の必要性である。本論文では,シリコン技術の局所酸化を用いることにより,石英基板上の非晶質シリコン層から成る誘電体メタ表面のポスト作製トリミングのためのアプローチを実証した。酸化はシリコンディスクの半径を効果的に減少させ,観測されたスペクトル応答の青方偏移をもたらす。100nmまでの青方偏移を実証した。緩和製造公差と後処理技術を可能にすることは,実行可能で有用な技術へのメタ表面の科学的進歩を促進する上で重要な役割を果たすことが期待される。したがって,実証されたアプローチは,メタ表面科学技術の急速に開発されたツールキットに対する付加的な重要なツールを提供すると信じられる。Copyright 2019 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ビーム成形 ,  ケイ素 ,  公差 ,  *トリミング ,  青方偏移 ,  高速度 ,  *共鳴 ,  円板 ,  *誘電体 ,  アモルファスシリコン ,  緩和現象 ,  走査
準シソーラス用語： ツールキット ,  局所酸化 ,  *メタ表面 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  発光素子  (NC03082G)

タイトルに関連する用語 (3件)： 誘電体共振 ,  メタ表面 ,  共鳴