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J-GLOBAL ID：201902224196592972   整理番号：19A1887094

Pt(111)上のAgの(サブ)単分子層成長における合金化,脱合金化およびリエントラント合金化【JST・京大機械翻訳】

Alloying, Dealloying, and Reentrant Alloying in (Sub)monolayer Growth of Ag on Pt(111)

著者 (5件)： Jankowski Maciej (Physics of Interfaces and Nanomaterials, MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, The Netherlands) ,  van Vroonhoven Esther (Physics of Interfaces and Nanomaterials, MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, The Netherlands) ,  Wormeester Herbert (Physics of Interfaces and Nanomaterials, MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, The Netherlands) ,  Zandvliet Harold J. W. (Physics of Interfaces and Nanomaterials, MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, The Netherlands) ,  Poelsema Bene (Physics of Interfaces and Nanomaterials, MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, The Netherlands)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 121  号： 15  ページ： 8353-8363  発行年： 2017年 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： プロトタイプ表面合金化システムAg/Pt(111)のその場ナノスコピック研究を報告した。極薄Ag-Pt膜の形態と構造を,約800Kでの成長中の低エネルギー電子顕微鏡を用いて研究した。非常に豊富な動的挙動が明らかになり,そこでは応力緩和が支配的役割を果たしている。初期成長により,長時間の表面合金化が生じ,そして,遅延が遅れた。50%以上の被覆脱合金化が進行し,激しいプロセスにおける大きな島の中心へのPtの部分的偏析によって接合される。その後,成長する島は合体し,結果的に不規則な空孔クラスタが発達する。これらのクラスタはPtの偏析により徐々に充填され,コンパクトな形状(黒色スポット)を仮定する。結果として,約85%の被覆率では,最初のシュードモルフィック膜の歪はほとんど完全に緩和され,Pt偏析はその最大値にあった。Agのさらなる堆積により,過渡的なリエントラント合金化とシュードモルフィック層の回復が生じた。黒色スポットは数層の厚さの膜においてさえも持続する。ex situ原子間力顕微鏡データは,これらがPt-(リッチ)構造によって構成されることを確認した。(サブ)単分子層膜は強く不均一である。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *単分子層 ,  被覆率 ,  プロトタイプ ,  クラスタ ,  応力緩和 ,  原子間力顕微鏡 ,  *銀 ,  *白金 ,  偏析 ,  *合金化 ,  被覆
準シソーラス用語： 単分子膜 ,  動的挙動 ,  表面合金化 ,  *脱合金 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 電気化学反応  (CB07050F)

タイトルに関連する用語 (7件)： Pt ,  Ag ,  サブ ,  単分子層 ,  成長 ,  合金化 ,  脱合金化