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J-GLOBAL ID：201902225248196729   整理番号：19A1836538

β-FeSi_2ナノ膜における歪分布評価のための二次元X線回折スポットの形状適合解析【JST・京大機械翻訳】

Shape-fitting analyses of two-dimensional X-ray diffraction spots for strain-distribution evaluation in a β-FeSi₂ nanofilm

著者 (10件)： Takemoto Shohei (Graduate School of Science and Technology, Nara Institute of Science and Technology (NAIST), Takayama 8916-5, Ikoma, Nara 630-0192, Japan) ,  Hattori Ken (Graduate School of Science and Technology, Nara Institute of Science and Technology (NAIST), Takayama 8916-5, Ikoma, Nara 630-0192, Japan) ,  Someta Masaaki (Graduate School of Science and Technology, Nara Institute of Science and Technology (NAIST), Takayama 8916-5, Ikoma, Nara 630-0192, Japan) ,  Hattori Azusa N. (Nanoscience and Nanotechnology Center, Institute of Scientific and Industrial Research (ISIR), Osaka University, Mihogaoka 8-1, Ibaraki, Osaka 567-0047, Japan) ,  Hattori Azusa N. (JST-PRESTO, Honcho 4-1-8, Kawaguchi, Saitama 332-0012, Japan) ,  Tanaka Hidekazu (Nanoscience and Nanotechnology Center, Institute of Scientific and Industrial Research (ISIR), Osaka University, Mihogaoka 8-1, Ibaraki, Osaka 567-0047, Japan) ,  Kurushima Kosuke (Toray Research Center Incorporated (TRC), Sonoyama 3-3-7, Otsu, Shiga 520-8567, Japan) ,  Otsuka Yuji (Toray Research Center Incorporated (TRC), Sonoyama 3-3-7, Otsu, Shiga 520-8567, Japan) ,  Daimon Hiroshi (Graduate School of Science and Technology, Nara Institute of Science and Technology (NAIST), Takayama 8916-5, Ikoma, Nara 630-0192, Japan) ,  Daimon Hiroshi (Data Science Center, Nara Institute of Science and Technology (NAIST), Takayama 8916-5, Ikoma, Nara 630-0192, Japan)
資料名： Journal of Applied Crystallography  (Journal of Applied Crystallography)
巻： 52  号： 4  ページ： 732-744  発行年： 2019年 
JST資料番号： D0631A  ISSN： 0021-8898  CODEN： JACGAR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Si(001)基板上にエピタキシャル成長させたβ-FeSi_2(100)の結晶性超薄膜(15Å)膜の歪,歪分布および分域サイズを,すれすれ入射X線回折を用いて評価するために,2D相反空間マップにおけるピーク形状の新しいフィッティング解析を実証した。装置の広がりと二重領域効果を考慮した二次元Laue適合解析は,β-FeSi_2のbとc軸に沿った不等価歪ε_bとε_cの関数としての残留マップを与え,ε_b,ε_cとDの均一領域の存在確率を反映した。不均一分域分布に適合する2D Laueは,ε_bとε_cを有する母集団マップを提供し,膜に寄与する歪成分を反映している。また,母集団マップは,残留マップに寄与する歪のガイドとして参照残差をもたらす。等価系に対するScherrer,Willison-Hall及びGaussフィッティング法との比較により,2D Laueあてはめの利点を論じた。解析結果は,β-FeSi_2ナノ膜がかなり小さく歪んでいることを示し,透過型電子顕微鏡によっても確認され,膜と基板の間の弱い界面相互作用を暗示した。Copyright 2019 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 残差 ,  分域 ,  *二次元 ,  *歪分布 ,  母集団 ,  結晶度 ,  超薄膜 ,  透過型電子顕微鏡 ,  *X線回折
準シソーラス用語： 界面相互作用 ,  すれすれ入射X線回折 ,  *ナノ薄膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (8件)： 面内X線回折 ,  ピーク形状適合 ,  二次元逆空間マップ ,  歪分布 ,  残留マップ ,  人口地図 ,  ドメインサイズ ,  電子伝達

分類 (2件)： 燃料要素  (MD04030E) ,  X線回折法  (BK01020I)

タイトルに関連する用語 (6件)： ナノ膜 ,  歪分布 ,  評価 ,  X線回折 ,  スポット ,  解析