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J-GLOBAL ID：201902225498290163   整理番号：19A2916692

異なる放射方向によるフッ素ドープ酸化スズの紫外レーザパターン形成【JST・京大機械翻訳】

Ultraviolet Laser Patterning of Fluorine-Doped Tin Oxide with Different Radiation Directions

著者 (5件)： Yang Huan (College of Mechanical & Electrical Engineering, Wenzhou University, Wenzhou, China) ,  Yang Huan (Sino-German College of Intelligent Manufacturing, Shenzhen Technology University, Shenzhen, China) ,  Cao Yu (College of Mechanical & Electrical Engineering, Wenzhou University, Wenzhou, China) ,  Xue Wei (College of Mechanical & Electrical Engineering, Wenzhou University, Wenzhou, China) ,  Liu Wenwen (College of Mechanical & Electrical Engineering, Wenzhou University, Wenzhou, China)
資料名： Journal of Russian Laser Research  (Journal of Russian Laser Research)
巻： 40  号： 6  ページ： 581-589  発行年： 2019年 
JST資料番号： T0223A  ISSN： 1071-2836  CODEN： JRLREO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多層構造における薄膜の選択的レーザパターン形成は,オプトエレクトロニクスとマイクロエレクトロニクスデバイスを作製するための新しい技術である。紫外(UV)レーザの応用がエレクトロニクス製造においてますます一般的であるので,本研究では,前面と裏面からのフッ素ドープ酸化スズ(FTO)膜のUVレーザパターン形成を比較した。バックサイドアブレーション(BSA)における焦点オフセットを計算するための式を要約し,レーザアブレーションクレータサイズ,ガラス基板上の損傷,レーザアブレーションパラメータの間の関係を系統的に解析した。さらに,本論文では,BSAのレーザアブレーションプロセスと機構,およびフロントサイドアブレーション(FSA)についても詳述した。Copyright 2019 Springer Science+Business Media, LLC, part of Springer Nature Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： レーザアブレーション ,  電子技術 ,  *紫外レーザ ,  *レーザ ,  多層構造 ,  アブレーション ,  薄膜 ,  *パターン形成 ,  クレータ ,  オプトエレクトロニクス
準シソーラス用語： ガラス基板 ,  *FTO【酸化物】 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： 355nm紫外レーザ ,  フッ素ドープ酸化スズ ,  背面アブレーション

分類 (2件)： 量子光学一般  (BD04010X) ,  量子力学一般  (BA06010C)

タイトルに関連する用語 (4件)： 放射 ,  フッ素ドープ酸化スズ ,  紫外レーザ ,  パターン形成