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J-GLOBAL ID：201902225887744829   整理番号：19A1884205

・OHラジカルによるジメチルスルフィドの酸化に及ぼす水の影響【JST・京大機械翻訳】

Influence of Water on the Oxidation of Dimethyl Sulfide by the ^・OH Radical

著者 (3件)： Domin Dominik (Direction de la Recherche Fondamentale, Maison de la Simulation, Batiment 565 - Digiteo, Commissariat a l’Energie Atomique, France) ,  Braieda Benoit (UPMC Universite Paris 06, CNRS UMR 7616, Laboratoire de Chimie Theorique, France) ,  Berges Jacqueline (UPMC Universite Paris 06, CNRS UMR 7616, Laboratoire de Chimie Theorique, France)
資料名： Journal of Physical Chemistry B  (Journal of Physical Chemistry B)
巻： 121  号： 40  ページ： 9321-9330  発行年： 2017年 
JST資料番号： W0921A  ISSN： 1520-6106  CODEN： JPCBFK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 水性環境における硫黄含有生物学的分子の酸化ストレスは,実験的に検出可能な短寿命の付加体中間体の形成をもたらす可能性がある。本研究では,そのような酸化反応の最も単純なモデルをモデル化した:ヒドロキシルラジカルによるジメチルスルフィド(DMS)の攻撃はラジカル付加物を形成し,その後のヘテロリシス解離は更なる反応に重要なラジカルカチオン(DMS+)をもたらす。著者らは,元の多段階手順の後に選択され,さらに分極性連続体モデルに埋め込まれ,ラジカル付加物のヘテロリシス解離に及ぼす水配置の影響を観察するために,限られた数の離散水分子を有する水性環境をモデル化した。分子動力学および量子化学法(DFT,MP2,およびCCSD)を用いて,DMS上でのOH攻撃に起因する最低エネルギー構造を解明した。それに続く高レベルab initio原子価結合(BovB)計算は,その後のヘテロリシス解離の発生の可能性を明らかにした。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 分子動力学 ,  水分子 ,  量子化学 ,  モデリング ,  *ヒドロキシルラジカル ,  分極 ,  原子価結合法 ,  酸化ストレス ,  中間体 ,  カチオンラジカル ,  *酸化 ,  脂肪族化合物 ,  スルフィド
準シソーラス用語： 連続体モデル ,  ヘテロリシス ,  ラジカル付加 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 光化学反応,ラジカル反応  (CF02090A)

物質索引 (1件)： ジメチルスルフィド

タイトルに関連する用語 (4件)： OHラジカル ,  ジメチルスルフィド ,  酸化 ,  水