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J-GLOBAL ID:201902226767929203   整理番号:19A2399306

エピタキシャル成長による単結晶ダイヤモンド膜の表面形態と光透過率の進展【JST・京大機械翻訳】

Evolution of surface morphology and optical transmittance of single crystal diamond film by epitaxial growth
著者 (3件):
資料名:
巻:号:ページ: 095048-095048-4  発行年: 2019年 
JST資料番号: U7121A  ISSN: 2158-3226  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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単結晶ダイヤモンド(SCD)は光学窓,光電素子,半導体および他の分野の応用において,光学,力学および熱工学における優れた性能のために大きな可能性を有している。反応ガスとしてCH_4/H_2を用いたマイクロ波プラズマ化学蒸着(MPCVD)法により,高圧および高温(HPHT)シード基板上にSCDをホモエピタキシャルに堆積した。シード結晶を前処理するために水素プラズマ処理を提案した。SCDのエピタキシャル層の上部表面は,増加した形態を有し,側面上に多結晶リム成長を示さなかった。結果は,エピタキシャルSCD膜の透過率が主に表面粗さによって影響され,それは主に成長時間によって影響されることを示した。738nmの光ルミネセンスは成長したSCDのシリコン色中心に起因し,光電子デバイスへの応用を示唆した。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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磁性材料 

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