文献
J-GLOBAL ID:201902226953085969   整理番号:19A0491651

高抵抗n型シリコン基板上に電着したパーマロイにおける静的および動的磁化研究【JST・京大機械翻訳】

Static and Dynamic Magnetization Investigation in Permalloy Electrodeposited onto High Resistive N-Type Silicon Substrates
著者 (8件):
資料名:
巻:号:ページ: 33  発行年: 2017年 
JST資料番号: U7162A  ISSN: 2079-6412  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: スイス (CHE)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
本研究は,低ドープn型シリコン基板上への電着により得られたパーマロイ薄膜の開発について報告する。電着時間の増加により非パーコレーションクラスタからパーコレーション薄膜へ変化する一方で,得られたままの構造の静的および動的磁気特性を調べた。磁気モーメントの動力学に対してLandau-Lifshitzを解くことにより行ったシミュレーションと非常に良く一致する実験的磁気結果を見出した。短い電着時間に対して,形成されたナノクラスタの静的および動的磁化挙動が,ランダムなキラリティと分極を伴う渦磁化を証明することを見出した。これは双極子相互作用最小化によって説明される。実際に,論理やバイポーラ磁気トランジスタや磁気メモリのようなシリコンベースのスピントロニクス素子における強磁性材料の最近の応用は,これらの将来のヘテロ構造化デバイスの開発のための低コストで簡単な電着技術の利用可能性を復活させたことが強調されている。Copyright 2019 The Author(s) All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (3件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
磁性理論  ,  その他の無機化合物の磁性  ,  金属結晶の磁性 
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る