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J-GLOBAL ID：201902227462404542   整理番号：19A2185319

プラズマアシスト蒸着法による透明導電膜に向けたノンドープ・チタン酸化物薄膜の形成

Non-doped Titanium Oxide Films for Transparent Conductive Oxides Fabricated by Plasma-assisted Deposition

著者 (2件)： 一戸隆久 (東京工業高等専門学校) ,  大野秀樹 (東京工業高等専門学校)
資料名： 表面と真空  (Vacuum and Surface Science)
巻： 62  号： 7  ページ： 406-410(J-STAGE)  発行年： 2019年 
JST資料番号： G0194B  ISSN： 2433-5835  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： プラズマアシスト蒸着を用いて非ドープ二酸化チタン膜を作製した。X線回折(XRD)分析によると,成膜したままの膜の結晶構造は酸素プラズマ濃度に依存せずほとんど非晶質であった。透過率スペクトルは,膜が40%-O₂プラズマで作られたとき,可視光波長で約60%の透明度を示し,そして,他のO₂濃度より低い抵抗率を示すことが実験的にわかった。本研究によって得られた抵抗率は,成膜したままの非ドープ膜における他の報告よりも非常に低かった。膜中の伝導機構は,ポストアニーリング後の特性を考慮すると酸素空孔に起因することが示唆された。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *プラズマCVD ,  *酸化チタン ,  *透過率 ,  プラズマ ,  *電気抵抗率 ,  空格子点 ,  温度 ,  非晶質 ,  *二酸化チタン ,  可視領域 ,  酸素プラズマ ,  熱処理温度 ,  酸素空格子点
準シソーラス用語： *プラズマ蒸着 ,  酸素空孔

著者キーワード (8件)： 酸化チタン ,  透明導電膜 ,  プラズマ支援蒸着 ,  マルチキャピラリー ,  酸化チタン ,  透明導電膜 ,  プラズマ支援蒸着 ,  マルチキャピラリー

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  固体デバイス材料  (NC03020K)

引用文献 (23件)：

• 1) K. Hashimoto, H. Irie and A. Fujishima : Jpn. J. Appl. Phys. 44, 8269 (2005).
• 2) K. Palanivelu, J.S. Im and Y.S. Lee : Carbon Sci. 8, 214 (2007).
• 3) K. Zakrzewska : Vacuum 74, 335 (2004).
• 4) X. Peng, Z. Wang, P. Huang, X. Chen, X. Fu and W. Dai : Sensors 16, 1249 (2016).
• 5) A. Ranjitha, N. Muthukumarasamy, M. Thambidurai, D. Velauthapillai, R. Balasundaraprabhu and S. Agilan : Sol. Energy 106, 159 (2014).

タイトルに関連する用語 (7件)： プラズマ ,  アシスト ,  蒸着 ,  透明導電膜 ,  ドープ ,  チタン ,  酸化物薄膜