Criegee中間体によるH-X(X=H,CH_3,CH_2F,CHF_2,CF_3およびSiH_3)結合活性化  理論的展望【JST・京大機械翻訳】

Kumar Manoj; Francisco Joseph S.

文献

J-GLOBAL ID：201902227775980293 整理番号：19A0659852

Criegee中間体によるH-X(X=H,CH_3,CH_2F,CHF_2,CF_3およびSiH_3)結合活性化理論的展望【JST・京大機械翻訳】

H-X (X = H, CH₃, CH₂F, CHF₂, CF₃, and SiH₃) Bond Activation by Criegee Intermediates: A Theoretical Perspective

出版者サイト複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=19A0659852&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=19A0659852&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=C0334B") }}

著者 (2件)： ,
資料名：
巻： 121 号： 49 ページ： 9421-9428 発行年： 2017年
JST資料番号： C0334B ISSN： 1089-5639 CODEN： JPCAFH 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

理論的計算とBorn-Oppenheimer分子動力学シミュレーションを用いて,オレフィンオゾン分解で主に生成されるCriegee中間体が,遷移金属で長く知られている温和な条件下でH-X(X=H,CH_3,CH_2F,CHF_2,CF_3,SiH_3)を活性化できることを示した。Criegee中間体の双性イオン電子構造は,H_2,メタン,シラン,およびボランのようなエンタルピー的に強い小分子を活性化するための興味深い金属フリー系である。CH_200のH_2またはSiH_4反応の計算障壁は,CH_4またはそのフッ素化類似体反応のものより著しく低かった。歪-相互作用エネルギーモデルは,種々のH-X結合を活性化するために,Criegee中間体の微分反応性を説明するのに成功することが分かった。正準遷移状態理論計算は,CH_200-h_2反応が200~300Kの温度範囲にわたるCH_200-CH_4反応より9~11桁速いことを示唆した。Criegee中間体の実験室合成が現在実行可能であることを考慮すると,これらの知見は小分子の金属フリー活性化における新しい展望を開く可能性がある。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

, , , , , , , , , , , , ,
, , 【Automatic Indexing@JST】

脂肪族ハロゲン化合物 , 分子間相互作用

, , ,

前のページに戻る

Criegee中間体によるH-X(X=H,CH_3,CH_2F,CHF_2,CF_3およびSiH_3)結合活性化 理論的展望【JST・京大機械翻訳】

Criegee中間体によるH-X(X=H,CH_3,CH_2F,CHF_2,CF_3およびSiH_3)結合活性化理論的展望【JST・京大機械翻訳】