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J-GLOBAL ID：201902228100252989   整理番号：19A0180050

効率的なAs(V)吸着と還元のためのコア-シェルCMnP@PMPDナノ複合材料の作製【JST・京大機械翻訳】

Fabrication of Core-Shell CMNP@PmPD Nanocomposite for Efficient As(V) Adsorption and Reduction

著者 (12件)： Wu Jin (School of Resources & Environmental Engineering, Hefei University of Technology, Anhui, People’s Republic of China) ,  Wu Jin (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences, Anhui, People’s Republic of China) ,  Zhu Hongshan (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences, Anhui, People’s Republic of China) ,  Liu Ge (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences, Anhui, People’s Republic of China) ,  Tan Liqiang (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences, Anhui, People’s Republic of China) ,  Hu Xiaoye (Institute of Solid States Physics, Chinese Academy of Sciences, Anhui, People’s Republic of China) ,  Chen Changlun (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences, Anhui, People’s Republic of China) ,  Chen Changlun (Department of Biological Sciences, Faculty of Science, King Abdulaziz University, Saudi Arabia) ,  Alharbi Njud S. (Department of Biological Sciences, Faculty of Science, King Abdulaziz University, Saudi Arabia) ,  Hayat Tasawar (NAAM Research Group, King Abdulaziz University, Saudi Arabia) ,  Tan Xiaoli (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences, Anhui, People’s Republic of China) ,  Tan Xiaoli (Collaborative Innovation Center of Radiation Medicine of Jiangsu Higher Education Institutions, Soochow University, Jiangsu, People’s Republic of China)
資料名： ACS Sustainable Chemistry & Engineering  (ACS Sustainable Chemistry & Engineering)
巻： 5  号： 5  ページ： 4399-4407  発行年： 2017年 
JST資料番号： W5047A  ISSN： 2168-0485  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ここでは,複雑な前修飾手順なしにポリ(m-フェニレンジアミン)(CMNP@PmPD)で被覆した新規カルボキシル官能化Fe_3O_4ナノ粒子(CMNP)を調製した。CMNP@PmPDは明確なコア-シェル構造を示し,磁性粒子の容易な分離特性と高分子の異常な吸着性能の両方を組み合わせた。CMNP@PmPDを用いて,バッチ実験によるAs-(V)の除去に及ぼす種々の環境因子(初期pH,イオン強度など)の影響を調べた。CMNP@PmPDsは,CMNPsよりもはるかに良好なAs-(V)吸着性能を示し,吸着容量は51.2mg・g(-1)から95.2mg・g(-1)まで強化された。CMNP@PmPDは,高い磁化(~46.7emu g(-1))を示し,実際の応用において外部磁場下でのそれらの容易な分離を示した。As-(V)のAs-(III)への還元を含む主要な反応経路をX線光電子分光法(XPS)分析により同定した。除去機構は,静電引力によるプロトン化イミノ及びカルボキシル基へのAs-(V)の吸着により説明でき,それはアミン基によりAs-(III)に還元された。本研究は,廃水からAs-(V)の除去のための低コストで効果的な修復戦略として,CMNP@PmPDの潜在的応用を実証した。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 廃水 ,  外部磁場 ,  イオン強度 ,  官能化 ,  *吸着 ,  磁化 ,  反応経路 ,  *還元 ,  ナノ粒子 ,  プロトン化 ,  アミン ,  *コアシェル構造 ,  *ナノ複合材料
準シソーラス用語： 吸着容量 ,  磁性粒子 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： コア-シェルナノ複合材料 ,  ポリ(m-フェニレンジアミン) ,  Fe_3O_4ミクロスフェア ,  As(V) ,  吸着と還元

分類 (2件)： 吸着剤  (YB03000W) ,  下水,廃水の物理的処理  (SC03040L)

タイトルに関連する用語 (5件)： 吸着 ,  還元 ,  コア-シェル ,  ナノ複合材料 ,  作製