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J-GLOBAL ID：201902228127317047   整理番号：19A1604368

EISによるアルカリCMPのためのアルミニウムの表面粗さに及ぼすJFC吸着効果の分析【JST・京大機械翻訳】

Analysis of JFC Adsorption Effect on Surface Roughness of Aluminum For Alkaline CMP By EIS

著者 (5件)： Wang Zhi (Tianjin Key Laboratory of Electronic Materials and Devices, Hebei University of Technology, Tianjin 300130, China) ,  Sun Ming (Tianjin Key Laboratory of Electronic Materials and Devices, Hebei University of Technology, Tianjin 300130, China) ,  Niu Xinhuan (Tianjin Key Laboratory of Electronic Materials and Devices, Hebei University of Technology, Tianjin 300130, China) ,  Zhou Jiakai (Tianjin Key Laboratory of Electronic Materials and Devices, Hebei University of Technology, Tianjin 300130, China) ,  Cui Yaqi (Tianjin Key Laboratory of Electronic Materials and Devices, Hebei University of Technology, Tianjin 300130, China)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2019  号： CSTIC  ページ： 1-3  発行年： 2019年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： CMP後のアルミニウム表面粗さに及ぼすアルカリ性スラリー中のJFCの影響を,電気化学インピーダンス分光法(EIS)とアルミニウム表面測定によって分析した。高周波領域における電荷移動抵抗を有する静電容量半円の直径は,JFC界面活性剤の濃度が0ml/Lから5ml/Lに増加するにつれて増加した。一方,Al表面は接触角が71%減少し,表面張力は74%減少した。さらに,Alの表面粗さはJFCの存在下で著しく減少した。Al/溶液界面上の物理吸着を伴う非イオン界面活性剤は,研磨プロセスの均一性を向上させるために,超親水性のアルミニウム表面を改質することにより,界面強度を改善することができた。Copyright 2019 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 研磨 ,  HF【周波数】 ,  スラリー ,  非イオン界面活性剤 ,  界面活性剤 ,  *吸着 ,  界面張力 ,  *アルミニウム ,  物理吸着 ,  接触角 ,  静電容量
準シソーラス用語： 超親水性 ,  半円 ,  電荷移動抵抗 ,  電気化学インピーダンス分光法 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (7件)： EIS ,  アルカリ ,  CMP ,  アルミニウム ,  表面粗さ ,  吸着 ,  分析