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J-GLOBAL ID:201902228603614805   整理番号:19A1453126

自己バイアスPMOSによる低オン状態電圧超接合IGBTのシミュレーション研究【JST・京大機械翻訳】

Simulation Study of a Low ON-State Voltage Superjunction IGBT With Self-Biased PMOS
著者 (3件):
資料名:
巻: 66  号:ページ: 3242-3246  発行年: 2019年 
JST資料番号: C0222A  ISSN: 0018-9383  CODEN: IETDAI  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本論文では,新しい超接合(SJ)絶縁ゲートバイポーラトランジスタ(SJ-IGBT)を提案し,シミュレーションにより研究した。そこでは,Pピラー領域上の浮遊Nベース領域を導入して,自己バイアスPMOSを形成した。オン状態では,PMOSはPピラー領域の正孔準Fermiポテンシャルを増加させ,NピラーとPピラー領域におけるキャリア蓄積効果を増強し,オン状態電圧を減少させる。ターンオフ過渡において,PMOSはホール蓄積によるPピラー領域の電位上昇の結果として自動的に回転できるので,提案したSJ-IGBTは急速にターンオフできる。TCADシミュレーションからの結果は,提案したSJ-IGBTのオン状態電圧が,カソードで短絡した従来のSJ-IGBT(SJ-IGBT-A)のそれより46.7%低く,Pピラー上のゲートを持つ従来のSJ-IGBT(SJ-IGBT-B)とほぼ同等であることを明らかにした。さらに,提案したSJ-IGBTのオフ状態破壊電圧は,SJ-IGBT-Aのそれとほぼ同じ値を保つことができ,SJ-IGBT-Bのそれより25%高い。加えて,1.16Vの同じV_ONによって,提案した装置のターンオフエネルギー損失は1.2mJ/cm2であり,それはSJ-IGBT-Aのそれより94.7%低くて,SJ-IGBT-Bのそれより20%低かった。Copyright 2019 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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