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J-GLOBAL ID：201902229124004424   整理番号：19A1809181

粗い基板上の高分子膜の強いvan der Waals接着【JST・京大機械翻訳】

Strong van der Waals Adhesion of a Polymer Film on Rough Substrates

著者 (9件)： Klatt Juliane (Physikalisches Institut, Albert-Ludwigs-Universitaet Freiburg, Germany) ,  Barcellona Pablo (Physikalisches Institut, Albert-Ludwigs-Universitaet Freiburg, Germany) ,  Bennett Robert (Physikalisches Institut, Albert-Ludwigs-Universitaet Freiburg, Germany) ,  Bokareva Olga S. (Institut fuer Physik, Universitaet Rostock, Germany) ,  Feth Hagen (TrueDyne Sensors AG, Switzerland) ,  Rasch Andreas (TrueDyne Sensors AG, Switzerland) ,  Reith Patrick (TrueDyne Sensors AG, Switzerland) ,  Buhmann Stefan Yoshi (Physikalisches Institut, Albert-Ludwigs-Universitaet Freiburg, Germany) ,  Buhmann Stefan Yoshi (Freiburg Institute for Advanced Studies, Albert-Ludwigs-Universitaet Freiburg, Germany)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 33  号： 21  ページ： 5298-5303  発行年： 2017年 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 化学的に不活性な高分子膜は生体模倣接着材料のナノ作製と同じ方法でvan der Waals(vdW)力を増強できることを提案した。粗い金属と誘電体基板上へのエチレン-クロロトリフルオロエチレン(ECTFE)膜のvdW接着に対して,高分子応答関数の微視的量子化学シミュレーションと高分子膜と基板間のCasimir力の巨視的量子電気力学計算との平衡単量体-基板距離を組み合わせたモデルを示した。最大2.22kN/mm2までの接着力を予測し,その効果は基板の粗さと誘電体表面によって低減された。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 誘電体 ,  *基板 ,  付着力 ,  量子電気力学 ,  シミュレーション ,  *高分子 ,  応答関数 ,  量子化学 ,  接着剤 ,  単量体 ,  計算機シミュレーション ,  *高分子膜 ,  *接着
準シソーラス用語： Casimir力 ,  誘電体基板 ,  生体模倣 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 高分子固体のその他の性質  (CG02025L) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

タイトルに関連する用語 (2件)： 高分子膜 ,  VAN