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J-GLOBAL ID:201902229312843215   整理番号:19A1888423

フッ素による自然酸化物/InAs界面の不動態化機構【JST・京大機械翻訳】

Passivation Mechanism of the Native Oxide/InAs Interface by Fluorine
著者 (9件):
資料名:
巻: 121  号: 38  ページ: 20744-20750  発行年: 2017年 
JST資料番号: W1877A  ISSN: 1932-7447  CODEN: JPCCCK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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XPS,HRTEM,C-V(77K)測定による陽極層(AL)/InAs界面の構造的及び電子的性質に及ぼすフッ素/酸素比の比較実験及び理論的研究及びInAs(111)-a-(1×1)非再構成表面上のフッ素及び酸素吸着のab initio計算を行った。インジウムとヒ素オキシフッ化物から成る良く秩序化した遷移層(TL)とフッ素化陽極層(FAL)/InAs界面における面間距離の拡張を実験的に明らかにした。AL/InAsとFAL/InAs界面の理論モデリングは,フッ素化TR形成がInAs表面歪を除去する一方,In-(InAs)-F-As-(FAL)とIn-(InAs)-O-As-(FAL)結合形成がFALとInAs表面間の面間距離増加の理由であることを示した。InAsバンドギャップにおける界面状態密度の減少とFAL/InAs界面でのFermi準位のピン止めはAs-F結合形成中のInAs表面近傍のFALヒ素原子上の正電荷増加から生じ,一方,酸素原子とInAs表面下ヒ素原子上の電子蓄積は陽極(自然)酸化物/InAs界面でのInAsバンドギャップの状態出現の理由である。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (4件):
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半導体結晶の電子構造  ,  半導体の表面構造  ,  原子・分子のクラスタ  ,  吸着の電子論 
タイトルに関連する用語 (5件):
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