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J-GLOBAL ID:201902229834331790   整理番号:19A1629287

ペロブスカイト太陽電池に用いる酸化ニッケル薄膜のマグネトロンスパッタリングの特異性【JST・京大機械翻訳】

Peculiarities of Magnetron Sputtering of Nickel Oxide Thin Films for Use in Perovskite Solar Cells
著者 (8件):
資料名:
巻: 64  号:ページ: 422-426  発行年: 2019年 
JST資料番号: E0952A  ISSN: 1063-7842  CODEN: TEPHEX  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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輸送層材料としての無機酸化物の使用は,ペロブスカイト太陽電池の効率を向上させる有望な方法である。蒸着した薄い酸化ニッケル膜の光学的,電気的および構造的パラメータに及ぼすマグネトロンスパッタリングの間に用いたプラズマ放電におけるガス混合組成の影響の研究結果を報告した。純アルゴン雰囲気(30vol%まで)への酸素又は窒素の添加は成長速度(1.2~2.3nm/分),試料の抵抗(8.5~208Ωcm),材料バンドギャップ(2.85~3.43eV)及び消光係数のスペクトル依存性を変化させたが,合成薄膜の構造及び形態パラメータは影響を受けなかった。純アルゴン雰囲気中で堆積した膜において最低の消光係数を見出し,ペロブスカイト化合物に基づく光起電力変換器におけるそれらの使用の能力を決定した。Copyright 2019 Pleiades Publishing, Ltd. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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金属の表面構造 
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