文献
J-GLOBAL ID:201902230680082590   整理番号:19A1408229

機械的回復力と電子性能の共存のための位置規則性制御ポリチオフェンの溶液集合ブレンド【JST・京大機械翻訳】

Solution-Assembled Blends of Regioregularity-Controlled Polythiophenes for Coexistence of Mechanical Resilience and Electronic Performance
著者 (10件):
資料名:
巻:号: 16  ページ: 14120-14128  発行年: 2017年04月26日 
JST資料番号: W2329A  ISSN: 1944-8244  CODEN: AAMICK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
携帯用,ウェアラブル,およびインプラント可能なデバイスにおける有機エレクトロニクスのすべての潜在的応用を考慮すると,優れた電子性能と共に機械的信頼性を有する電気活性材料を開発することは非常に重要である。しかしながら,これらの2つの属性の共存は,電気的性質と機械的柔軟性の間に逆相関があるので達成するのは非常に困難であり,その両方は高分子の共役長さと分子間秩序化に関連する。ここでは,有機電子応用のための膜への電気的および機械的性質の両方を付与するために,97%および66%の位置規則性(RR)含有量を有する2つの異なるポリ(3-ヘキシルチオフェン)-s(P3HT)の溶液集合に基づく簡単でロバストなアプローチを実証した。97%のRR P3HTは高い電子性能を示したが,機械的回復力は低く,66%のRR P3HTに対しては逆であった。溶液集合によって誘起された高いRR P3HTの選択的結晶化は,低いRR P3HTマトリックス中の高いRR P3HTナノワイヤ(NW)のパーコレーションネットワークを構築するための一段階プロセスの使用を可能にする。95wt%の低RR P3HTマトリックス中の5wt%の高いRR P3HT NWのみが,純粋な高RR P3HTのそれに匹敵する正孔移動度を生成するために必要であり,このブレンド膜は,破断と靭性の伸びにおいて,それぞれ20と60倍の改善を示した。RR制御高分子の選択的自己集合は,それらの電子特性を犠牲にすることなく,高結晶性共役高分子膜の脆弱性を克服することを可能にした。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
高分子固体の物理的性質  ,  トランジスタ 

前のページに戻る