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J-GLOBAL ID：201902230884107605   整理番号：19A1458445

紫外線照射および集合多層によるポリエチレンナフタレート基板の表面改質および無電解析出におけるその応用:層状構造の化学的および物理的性質【JST・京大機械翻訳】

Surface modification of polyethylene naphthalate substrates by ultraviolet light-irradiation and assembling multilayers and their application in electroless deposition: The chemical and physical properties of the stratified structure

著者 (6件)： Tamai T. (Morinomiya Center, Osaka Research Institute of Industrial Science and Technology, 1-6-50 Morinomiya, Joto-ku, Osaka 536-8553, Japan) ,  Watanabe M. (Morinomiya Center, Osaka Research Institute of Industrial Science and Technology, 1-6-50 Morinomiya, Joto-ku, Osaka 536-8553, Japan) ,  Kobayashi Y. (Morinomiya Center, Osaka Research Institute of Industrial Science and Technology, 1-6-50 Morinomiya, Joto-ku, Osaka 536-8553, Japan) ,  Kobata J. (Izumi Center, Osaka Research Institute of Industrial Science and Technology, 2-7-1 Ayumino, Izumi-shi, Osaka 594-1157, Japan) ,  Nakahara Y. (Faculty of Systems Engineering, Wakayama University, 930 Sakae-dani, Wakayama 640-8510, Japan) ,  Yajima S. (Faculty of Systems Engineering, Wakayama University, 930 Sakae-dani, Wakayama 640-8510, Japan)
資料名： Colloids and Surfaces. A. Physicochemical and Engineering Aspects  (Colloids and Surfaces. A. Physicochemical and Engineering Aspects)
巻： 575  ページ： 230-236  発行年： 2019年 
JST資料番号： A0539B  ISSN： 0927-7757  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高分子表面上の無電解金属堆積は金属パターンの作製に有用である。ポリエチレンナフタレート(PEN)基板の表面を紫外線(UV)光照射と高分子電解質多層薄膜の層毎集合により修飾し,次にニッケルと銅膜を基板表面上に無電解で堆積し,層化構造,PEN-基板/多層/金属膜を形成した。基板表面の改質層の化学的及び物理的性質をX線光電子分光法,ナノインデンテーション試験及び接触角測定により調べた。UV照射表面層の特性は表面改質の条件に依存し,堆積した金属膜の接着に影響した。多層に適合する薄い改質層を持つUV(254nm)照射PEN基板上に接着ニッケル膜を蒸着した。対照的に,接着性ニッケル膜は,より厚く脆弱な改質層を有する基板表面上に堆積されなかった。これらの対照的な結果は,基板表面層における高分子鎖の酸素化と架橋に起因し,UV照射により形成された反応性種は,酸素化と架橋を誘起する。改質基板表面の特性は接着金属膜の堆積に重要な役割を果たしている。Copyright 2019 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 接触角 ,  接着 ,  *多層 ,  *無電解めっき ,  *ポリエチレンナフタレート ,  金属薄膜 ,  *表面改質 ,  ニッケル ,  *電解 ,  X線光電子スペクトル ,  *紫外線 ,  多層膜 ,  酸素化 ,  *基板 ,  銅 ,  ナノインデンテーション

著者キーワード (5件)： プラズマ処理 ,  UV/オゾン処理 ,  層毎組立 ,  無電解めっき ,  ポリエチレンナフタレート

分類 (5件)： 界面化学一般  (CB12010J) ,  固-液界面  (CB12050B) ,  無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  コロイド化学一般  (CB11010C)

タイトルに関連する用語 (10件)： 紫外線照射 ,  集合 ,  多層 ,  ポリエチレンナフタレート ,  表面改質 ,  無電解析出 ,  応用 ,  層状構造 ,  化学 ,  物理的性質