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J-GLOBAL ID：201902231032037631   整理番号：19A0514622

バイオセンシング応用のための自立無基板フォトニック結晶空洞のCMOS製作大アレイ【JST・京大機械翻訳】

CMOS Fabricated Large Array of Free Standing Substrate-Less Photonic Crystal Cavities for Biosensing Applications

著者 (3件)： Saurav Kumar (Photonics Research Group, Ghent University-imec, Ghent, Belgium) ,  Kumari Sulakshna (Photonics Research Group, Ghent University-imec, Ghent, Belgium) ,  Le Thomas Nicolas (Photonics Research Group, Ghent University-imec, Ghent, Belgium)
資料名： IEEE Photonics Journal  (IEEE Photonics Journal)
巻： 9  号： 2  ページ： ROMBUNNO.2400308.1-8  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2436A  ISSN： 1943-0655  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,相補型金属-酸化物-半導体(CMOS)技術プラットフォームを用いて作製した数百nmの薄いフォトニック膜の大アレイをポスト処理する方法を示した。後処理は,シリコン基板と埋め込まれた酸化物の局所的な除去をもたらし,フォトニック構造の両側から自由なアクセスを提供する。膜は深紫外線リソグラフィーによりフォトニック結晶空洞でパターン化した。提案したプロセスは,マイクロメータサイズのSU8ベースの高分子導波路の集積と互換性があることを示した。これらの高分子導波路は,高屈折率コントラスト断熱ナノメータサイズのシリコン反転テーパと共にスポットサイズ変換器として作用する。さらに,そのような自立した基板のない空洞を達成するためにはかなりの数の処理ステップが必要であるが,数千のオーダーの空洞の品質(Q)因子は影響を受けない。Copyright 2019 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 後処理 ,  酸化物 ,  半導体 ,  コントラスト ,  *フォトニック結晶 ,  *CMOS ,  パターン形成 ,  互換性 ,  リソグラフィー ,  マイクロメータ ,  *バイオセンサ ,  品質
準シソーラス用語： 深紫外線 ,  フォトニック構造 ,  シリコンウエハ , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (5件)： 楽器音響  (BB03070Y) ,  水中音響応用  (BB03090U) ,  医用画像処理  (JE04020T) ,  音響信号処理  (BB03050C) ,  その他のオペレーションズリサーチの手法  (KA03070E)

タイトルに関連する用語 (8件)： バイオセンシング ,  応用 ,  自立 ,  フォトニック結晶 ,  空洞 ,  CMOS ,  製作 ,  アレイ