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J-GLOBAL ID：201902232088722946   整理番号：19A0182312

酵母におけるX-フェノールにより誘導される増殖阻害とDNA損傷:定量的構造活性相関研究【JST・京大機械翻訳】

Growth Inhibition and DNA Damage Induced by X-Phenols in Yeast: A Quantitative Structure-Activity Relationship Study

著者 (5件)： Negritto M. Cristina (Molecular Biology Program, Department of Biology/Department of Chemistry, Pomona College, California, United States) ,  Valdez Clarissa (Molecular Biology Program, Department of Biology/Department of Chemistry, Pomona College, California, United States) ,  Sharma Jasmine (Molecular Biology Program, Department of Biology/Department of Chemistry, Pomona College, California, United States) ,  Rosenberg Christa (Chemistry Department, Pomona College, California, United States) ,  Selassie Cynthia R. (Chemistry Department, Pomona College, California, United States)
資料名： ACS Omega  (ACS Omega)
巻： 2  号： 12  ページ： 8568-8579  発行年： 2017年 
JST資料番号： W5044A  ISSN： 2470-1343  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： フェノール化合物とそれらの誘導体は,環境中に存在する多数の合成および天然化学物質の普遍的成分である。それらの毒性は,それらの疎水性および/またはフリーラジカルの形成に起因する。系統的な方法でのフェノール毒性の研究の継続において,定量的構造活性相関(QSAR)アプローチを用いて一連の一置換フェノール類に対する生物学的応答を調べた。生物学的エンドポイントは,DNA損傷またはDNA切断を誘導するX-フェノールの能力を評価する酵母欠失(DEL)アッセイと同様に,フェノールにより誘導された増殖阻害のレベルを決定する成長アッセイを含んだ。IC50とIC80値によって決定された細胞成長パターンのQSAR分析は,毒性が疎水性の放物線モデルによって描写されることを示している。次に,DEL分析を用いて,酵母におけるゲノム欠失を検出した。遺伝毒性の増加は,強い電子ドナーであるフェノール性置換基の求電子性と最小の疎水性によって強化された。電子親和性は,Hamettシグマ定数の変異体であるBrownのシグマプラス値によって表される。DNA修復に関与する遺伝子の少数の変異株を2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチル-フェノール(BHT)とブチル化ヒドロキシアニソール(BHA)に別々に曝露した。その後,それらを成長表現型のためにスクリーニングした。ほとんどのDNA修復ヌル変異株におけるBBA誘導成長欠損は非応答性であった。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 化学物質 ,  DNA修復 ,  細胞増殖 ,  *DNA損傷 ,  ラジカル ,  *定量的構造活性相関 ,  *増殖阻害 ,  ゲノム ,  表現型 ,  疎水性 ,  遺伝毒性 ,  *酵母 ,  フェノール類
準シソーラス用語： 求電子性 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： その他の汚染原因物質  (SB05040W) ,  有機化合物の毒性  (GZ02030Y)

物質索引 (1件)： フェノール

タイトルに関連する用語 (7件)： 酵母 ,  フェノール ,  誘導 ,  増殖阻害 ,  DNA損傷 ,  定量的構造活性相関 ,  研究