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J-GLOBAL ID：201902232625414770   整理番号：19A2022102

固定床反応器における修飾HZSM-5触媒上でのエチルフェノールの合成【JST・京大機械翻訳】

Synthesis of Ethyl Phenol over Modified HZSM-5 Catalyst in a Fixed Bed Reactor

著者 (3件)： Saharan Renuka (Department of Chemical Engineering, Thapar Institute of Engineering and Technology, Patiala 147004, India) ,  Halder Gopinath (Department of Chemical Engineering, National Institute of Technology, Durgapur, West Bengal, India) ,  Barman Sanghamitra (Department of Chemical Engineering, Thapar Institute of Engineering and Technology, Patiala 147004, India)
資料名： International Journal of Chemical Reactor Engineering  (International Journal of Chemical Reactor Engineering)
巻： 17  号： 7  ページ： 20180224  発行年： 2019年 
JST資料番号： W3790A  ISSN： 2194-5748  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： エタノールによるフェノールの気相アルキル化におけるp-エチルフェノールの選択的合成を,温度693Kでセリウム修飾ゼオライトCeZSM5上の固定層流通反応器中で研究した。Ce_4ZSM5_4,Ce_6ZSM5_6,Ce_8ZSM5_8,Ce_10ZSM5のような一連のセリウム改質ゼオライトを,それぞれ4%,6%,8%,および10%のセリウム硝酸アンモニウム溶液で修飾することによって調製した。10%硝酸セリウム溶液で交換したHZSM-5ゼオライトが用いた全ての触媒の中で最良であることを証明した。修飾触媒を,SEM,XRDおよびEDSによってさらに特性化した。フェノールはエタノールと反応し,O-アルキル化によりエチルフェニルエーテル,C-アルキル化によりp-エチルフェノール及びo-エチルフェノール異性体を生成した。二次生成物はm-エチルフェノール及びジアルキル化合物であった。反応は温度623K~693K,反応物モル比0.2~0.5,改質HZSM-5ゼオライト上で行った。p-エチルフェノールの最大選択性に対する最適操作条件は,EtOH対フェノールモル比4:1;温度,623K;時空,10.2kgh/kmolおよび1気圧の圧力。エチルフェノール合成反応の詳細な速度論研究を行った。生成物分布パターンから,反応の速度論モデルをLangmuir-Hinshelwood法に従って提案した。速度方程式の速度論と吸着パラメータを非線形回帰分析によって決定した。実験データの速度論解析から,反応の見掛け活性化エネルギーは43.27kJ/molと決定された。Copyright 2019 Walter de Gruyter GmbH, Berlin/Boston Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： モル比 ,  レート方程式 ,  *固定層反応器 ,  気相 ,  X線回折 ,  速度論 ,  キャラクタリゼーション ,  *HZSM-5 ,  吸着 ,  アルキル化 ,  *触媒 ,  セリウム ,  流通反応器 ,  フェノール類 ,  脂肪族アルコール

著者キーワード (5件)： HZSM-5 ,  アルキル化 ,  セリウム ,  パラエチルフェノール ,  エタノール

分類 (2件)： 合成鉱物  (CD01040K) ,  不均一系触媒反応  (CB06100E)

物質索引 (2件)： フェノール ,  エタノール

タイトルに関連する用語 (5件)： 固定床反応器 ,  修飾 ,  HZSM-5 ,  触媒 ,  フェノール