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J-GLOBAL ID:201902234008537125   整理番号:19A2021689

NO_2とH_2ガスセンサのためのPdナノ粒子で修飾したグラフェンLangmuir-Schaefer膜【JST・京大機械翻訳】

Graphene Langmuir-Schaefer films Decorated by Pd Nanoparticles for NO2 and H2 Gas Sensors
著者 (7件):
資料名:
巻: 19  号:ページ: 64-69  発行年: 2019年 
JST資料番号: U8082A  ISSN: 1335-8871  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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数層グラフェン(FLG)によるNO_2とH_2ガス検知を,パラジウムナノ粒子(NPs)によるグラフェンのアニーリングと修飾に依存して研究した。修飾Langmuir-Schaefer法によりSiO_2(500nm)/Si基板上にグラフェンを堆積した。1-メチル-2-ピロリドン中のFLGフレークの溶液を,膨張粉砕グラファイトの温和な超音波処理により得た。FLG膜を原子間力顕微鏡,X線回折,Raman分光法およびBrunnauer 法によって特性化した。平均FLGフレーク厚さと側方寸法は,それぞれ5nmと300nmであった。FLG膜上へのPd NP(6~7nm)溶液の液滴キャスティングを,Pdによりグラフェンを修飾するために適用した。試料の室温(RT)抵抗は真空アニーリングにより15kΩで安定化した。FLG膜の加熱サイクルはその半導体特性を明らかにした。ガス検知を,RTと200°Cの間で,乾燥空気とH_2ガス(10~10000ppm)およびNO_2ガス(2~200ppm)の混合物中で試験した。H_2に対する26%の応答は,混合物中の70°Cと10000ppmのH_2でのPd修飾によるFLGによって達成された。純粋なFLG膜はH_2に対していかなる応答も示さなかった。RTにおける6ppmのNO_2に対するFLGの応答は≧23%であった。それは純粋なFLG試料のそれより2倍大きい。センサの長期安定性を研究した。Copyright 2019 Dmytro Kostiuk et al., published by Sciendo Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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JSTが定めた文献の分類名称とコードです
炭素とその化合物 

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