P-13.14:AMOLEDディスプレイに及ぼすプラズマ増強化学蒸着マスクの影響【JST・京大機械翻訳】

Wang Xinzhu; Wu Xinfeng; Peng Yuqing; Li Fei; Ai Yu; Hu Youyuan; Li Huihui

文献

J-GLOBAL ID：201902234421948926 整理番号：19A2448707

P-13.14:AMOLEDディスプレイに及ぼすプラズマ増強化学蒸着マスクの影響【JST・京大機械翻訳】

P-13.14: The Effect of Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Mask on AMOLED Display

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資料名：
巻： 50 Suppl S1 ページ： 991 発行年： 2019年
JST資料番号： E0907A ISSN： 0097-966X 資料種別：会議録 (C)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

AMOLEDカプセル化のプラズマ増強化学蒸着(PECVD)プロセスにおいて,異なる条件のマスクをAMOLED TFTガラス上で試験した。粗さはTFTガラスのアーク欠陥量に大きく影響することが分かった。マスク表面のより大きなSz(プロファイルの最大高さ),より多くのアーク欠陥が周辺回路上に発生した。点放電の観点から,周辺回路線に及ぼすSzの影響を良く説明した。PECVDプロセスにおけるアーク欠陥を避けるために,マスク表面粗さを改善するか,マスク表面上の丘高さを減少させることが示唆された。Copyright 2019 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

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