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J-GLOBAL ID：201902234887706986   整理番号：19A1981853

N+注入はエピタキシャルFe膜の面内六重磁気対称を修復する。【JST・京大機械翻訳】

Recovering in-plane six-fold magnetic symmetry of epitaxial Fe films by N+ implantation

著者 (5件)： Jiang Xingdong (蘭州大学, 磁学与磁性材料教育部重点実験室, 蘭州 730000) ,  Guan Xingyin (西北核技術研究所,西安,710024) ,  Huang Juanjuan (蘭州大学, 磁学与磁性材料教育部重点実験室, 蘭州 730000) ,  Fan Xiaolong (蘭州大学, 磁学与磁性材料教育部重点実験室, 蘭州 730000) ,  Xue Desheng (蘭州大学, 磁学与磁性材料教育部重点実験室, 蘭州 730000)
資料名： Wuli Xuebao  (Wuli Xuebao)
巻： 68  号： 12  ページ： 208-213  発行年： 2019年 
JST資料番号： B0628A  ISSN： 1000-3290  CODEN： WLHPA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： イオン注入がエピタキシャル磁性薄膜の面内磁気異方性に与える影響を研究するために、イオン加速器を用いてミスカット角のあるSi(111)面上にエピタキシャル成長させたFe膜に対してN+注入実験を行った。N+注入量の増加に伴い、エピタキシャル成長Fe膜の面内磁気異方性は次第に二重対称から六重対称に変化した。透過型電子顕微鏡とエッチング実験により、イオン照射はFe膜表面と界面の状態を変えることが分かった。非照射Fe膜の面内二重磁気対称は、Si(111)面のミスカットによる薄膜界面と表面に形成された原子ステップに由来する。N+注入のスパッタリング作用はFe膜表面の原子ステップを消去させ、N+注入はバッファ層とFe膜界面の相互拡散による界面の原子ステップの消失を招く。従って、エピタキシャルFe膜は大量N+注入後にFe(111)面誘導の六重磁気対称を示した。研究結果は面内磁気記録密度の向上に潜在的応用価値がある。Data from Wanfang. Translated by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： エッチング ,  スパッタリング ,  *エピタクシー ,  薄膜 ,  *鉄 ,  イオン照射 ,  磁性薄膜 ,  界面 ,  相互拡散 ,  イオン注入 ,  *対称性 ,  *磁気 ,  透過型電子顕微鏡 ,  電子顕微鏡観察 ,  バッファ層
準シソーラス用語： シリコン(111) , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (4件)： 数理物理学  (BA03000W) ,  その他の無機化合物の磁性  (BM06060P) ,  金属薄膜  (BK14030T) ,  金属の磁気異方性・磁気機械効果  (BM06102S)

タイトルに関連する用語 (6件)： 注入 ,  エピタキシャル ,  Fe ,  磁気 ,  対称 ,  修復