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J-GLOBAL ID:201902236174870600   整理番号:19A2517703

GaNを通してフェムト秒レーザで照射したAu/Ni薄膜の局所融解【JST・京大機械翻訳】

Local melting of Au/Ni thin films irradiated by femtosecond laser through GaN
著者 (7件):
資料名:
巻: 125  号: 10  ページ: 1-6  発行年: 2019年 
JST資料番号: D0256C  ISSN: 0947-8396  CODEN: APHYCC  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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GaN層上に堆積したAu/Ni二層薄膜を局所的に溶融するための適切なフェムト秒レーザ照射条件を見出した。Au/Ni膜のレーザ照射をGaNと透過型電子顕微鏡により行い,GaNがレーザ誘起損傷を受けることなくレーザパルスを導入するための強靭な窓として作用することを明らかにした。Au/Ni二重層薄膜はレーザ照射線に沿って融解し,Au-Ni固溶体相を含む粗粒子に再凝固した。一方,レーザ改質領域間の領域では,Au/Ni薄膜は蒸着状態と同じ形態を保持した。溶融領域から非影響領域への遷移は狭い中間領域で起こった。本結果は,フェムト秒レーザ照射により固溶体相を形成するために,サイト特異的に溶融した薄膜に対する新しい技術の可能性を示した。Copyright 2019 Springer-Verlag GmbH Germany, part of Springer Nature Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
分類
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レーザ照射・損傷  ,  固体デバイス製造技術一般 

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