文献

J-GLOBAL ID：201902238444142811   整理番号：19A1465764

Compton後方散乱法に基づくガンマ線光源生成のためのコンパクトストレージリングの設計と動的研究【JST・京大機械翻訳】

Design and dynamic studies for a compact storage ring to generate gamma-ray light source based on Compton backscattering technique

著者 (9件)： Pan Zhilong (Key Laboratory of Particle and Radiation Imaging Ministry of Eduction, Department of Engineering Physics, Tsinghua University, Beijing 100084, China) ,  Pan Zhilong (Lawrence Berkeley National Laboratory, Berkeley, California 94720, USA) ,  Byrd John (Argonne National Laboratory, Argonne, Illinois 60439, USA) ,  Hao Hao (Department of Physics, Duke University, Durham, North Carolina 27708, USA) ,  Huang Wenhui (Key Laboratory of Particle and Radiation Imaging Ministry of Eduction, Department of Engineering Physics, Tsinghua University, Beijing 100084, China) ,  Li Derun (Lawrence Berkeley National Laboratory, Berkeley, California 94720, USA) ,  Sun Changchun (Lawrence Berkeley National Laboratory, Berkeley, California 94720, USA) ,  Wu Y. K. (Department of Physics, Duke University, Durham, North Carolina 27708, USA) ,  Tang Chuanxiang (Key Laboratory of Particle and Radiation Imaging Ministry of Eduction, Department of Engineering Physics, Tsinghua University, Beijing 100084, China)
資料名： Physical Review Accelerators and Beams  (Physical Review Accelerators and Beams)
巻： 22  号： 4  ページ： 040702  発行年： 2019年 
JST資料番号： W5064A  ISSN： 2469-9888  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 核物理学および原子科学の発展とともに,単色および高フラックスγ線光源は,これらの分野において多くの実験により高度に要求されている。コンプトン後方散乱技術に基づくガンマ線源発生のためのコンパクトなストレージリングを設計した。リングに保存された電子ビームのエネルギー範囲は,約4から10MeVまでのエネルギー範囲でγ線を発生させる能力で,500から800MeVになるであろう。電子に対する最大エネルギー損失は一つの散乱事象に対して1%以上であり,これは電子ビーム動力学に大きな影響を持つ可能性がある。この影響を研究するために,6Dマクロ粒子追跡コードを,ストレージリングにおけるCompton散乱,減衰,量子励起,およびシンクロトロン放射を含むことによって開発した。平衡状態をこのコードで研究し,結果は理論予測と良く一致した。Compton散乱により誘起された電子ビーム損失率も入力レーザビームパラメータを変えて調べた。本研究では,安定,高フラックス,狭帯域のγ線ビーム発生のためのストレージリング動作を最適化することを可能にした。Copyright 2019 The American Physical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 電子ビーム ,  *ストレージリング ,  *散乱 ,  最適化 ,  *後方散乱 ,  予測 ,  エネルギー損失 ,  *光源 ,  シンクロトロン放射 ,  γ線源 ,  励起 ,  Compton散乱 ,  *γ線 ,  狭帯域
準シソーラス用語： 単色 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 円形加速器  (BE02020X)

タイトルに関連する用語 (4件)： 後方散乱 ,  ガンマ線 ,  設計 ,  研究