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J-GLOBAL ID:201902238475542732   整理番号:19A0182232

室温でのBi_2O_2CO_3成長:その場X線回折モニタリングと熱挙動【JST・京大機械翻訳】

Bi2O2CO3 Growth at Room Temperature: In Situ X-ray Diffraction Monitoring and Thermal Behavior
著者 (7件):
資料名:
巻:号: 11  ページ: 8213-8221  発行年: 2017年 
JST資料番号: W5044A  ISSN: 2470-1343  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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炭酸ナトリウム緩衝液中のBi_2O_3からのオキシ炭酸ビスマス(Bi_2O_2CO_3)の室温形成を,電子顕微鏡と振動分光法を組み合わせたその場粉末X線回折(PXRD)により研究した。時間分解PXRD測定は反応機構の顕著で複雑なpH依存性を示した。Bi_2O_2CO_3形成は,異なる機構によりpH8と10の間の狭い窓内で進行した。ゼロ次元核形成モデルはpH8付近で優勢であるが,より高いpH値は拡散律速モデルへの変化を誘導し,続いて規則的核形成速度論への遷移をもたらす。ex situ合成および分光学的研究により,これらの傾向を確認し,その場モニタリングがBi_2O_2CO_3材料の制御された製造のための重要なパラメータ情報を提供することを実証した。さらに,異なる合成経路から得られたBi_2O_2CO_3前駆体のβ→α酸化ビスマス変換温度は,市販の酸化ビスマスから著しく異なる(min50°C)。パラメータ研究は,合成したままの酸化ビスマス源における表面炭酸イオンの安定化役割を示唆した。著者らの結果は,酸化ビスマス系触媒と関連する機能性化合物への制御されたアクセスのために,特にpH値とソース材料の多重調製履歴パラメータの重要な役割を明らかにした。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
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塩基,金属酸化物  ,  光化学反応 
タイトルに関連する用語 (5件):
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