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J-GLOBAL ID：201902238778581340   整理番号：19A1810317

非対称疎水性表面間で測定した疎水性引力【JST・京大機械翻訳】

Hydrophobic Attraction Measured between Asymmetric Hydrophobic Surfaces

著者 (4件)： Ishida Naoyuki (Division of Applied Chemistry, Graduate School of Natural Science and Technology, Okayama University, Japan) ,  Matsuo Kohei (Division of Applied Chemistry, Graduate School of Natural Science and Technology, Okayama University, Japan) ,  Imamura Koreyoshi (Division of Applied Chemistry, Graduate School of Natural Science and Technology, Okayama University, Japan) ,  Craig Vincent S. J. (Department of Applied Mathematics, Research School of Physics and Engineering, The Australian National University, Australia)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 34  号： 12  ページ： 3588-3596  発行年： 2018年 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 疎水性の異なる程度に修飾したシリカ表面間の相互作用力を,コロイドプローブ原子間力顕微鏡(AFM)を用いて測定した。高度に疎水性のシリカ粒子をオクタデシルトリクロロシラン(OTS)で調製し,相互作用力を変化する疎水性の表面を生成するために修飾したシリカ基板に対して測定した。高度に疎水性の粒子と完全に親水性のシリコンウエハ表面の間の相互作用力はDLVO理論に良く適合し,付加的な(非DLVO)力が表面間に作用しないことを示した。シリコンウエハ表面を40°の表面上に水の接触角を生成するために処理したとき,van der Waals力よりも長い付加的な引力が表面間で観察された。引力の範囲と大きさは,基板上の水の接触角とともに増加した。接触角に及ぼす効果を超えると,基板上の疎水性層の炭化水素鎖長と末端基は,基板が極性カルボキシル基で終端された時でも,力の大きさに対してわずかな影響しか及ぼさず,他の表面の疎水性が高い。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 基板 ,  二酸化ケイ素 ,  親水性 ,  *疎水性 ,  接触角 ,  DLVO理論 ,  *非対称性 ,  カルボキシ基 ,  原子間力顕微鏡 ,  van der Waals力 ,  末端基
準シソーラス用語： シリコンウエハ ,  シリカ粒子 ,  コロイドプローブ ,  相互作用力 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固-液界面  (CB12050B)

タイトルに関連する用語 (3件)： 非対称 ,  疎水性 ,  引力