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J-GLOBAL ID：201902239584614653   整理番号：19A0011078

電子ホログラフィーを用いて分析した鉄およびニッケル膜における180°磁壁幅の温度依存性【JST・京大機械翻訳】

Temperature dependence of 180° domain wall width in iron and nickel films analyzed using electron holography

著者 (4件)： Niitsu K. (Department of Materials Science and Engineering, Kyoto University, Sakyo-ku, Kyoto 606-8501, Japan) ,  Tanigaki T. (Research & Development Group, Hitachi Ltd., Hatoyama 350-0395, Japan) ,  Harada K. (RIKEN, Center for Emergent Matter Science (CEMS), Wako 351-0198, Japan) ,  Shindo D. (RIKEN, Center for Emergent Matter Science (CEMS), Wako 351-0198, Japan)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 113  号： 22  ページ： 222407-222407-5  発行年： 2018年 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： それらの発見以来,多くの研究が磁壁に対して専用されてきたが,それらの本質的な特徴に関するいくつかの問題は不明のままである。バルク強磁性体に対して,Bloch型180°磁壁幅は,Aが強磁性交換剛性定数であり,Kが磁気結晶異方性定数である特性長A/Kにより拡張可能である。この関係は,電子顕微鏡と他の磁気イメージング技術を用いて一般的に観察できる磁壁に適用できると考えられてきた。本研究では,電子ホログラフィーを用いて薄い(100)鉄と(110)ニッケル膜に導入されたBloch型180°磁壁幅の温度依存性を調べ,磁壁幅の温度依存性がA/Kのそれに従わないことを明らかにした。磁壁幅は非単調的に変化し,温度上昇と共に劇的に増加するA/Kとの明らかな矛盾を示した。この矛盾は,磁気静的エネルギーの全磁壁エネルギーへの寄与から生じる可能性があり,これはしばしば考慮されていないか,あまり考慮されていない。静磁気エネルギーは試料表面近傍の磁壁のスクイージングに重要な役割を果たす。修正エネルギー景観は,観測された磁壁幅の温度依存性を再現することができ,したがって,Curie温度以下の非常に広い温度範囲にわたって,AとKの磁気特性を利用するための使用が容易な方法を提供する。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 磁気 ,  異方性 ,  *磁壁 ,  強磁性 ,  電子顕微鏡観察 ,  昇温 ,  結晶 ,  剛性 ,  Curie温度 ,  *温度依存性 ,  電子顕微鏡 ,  *ニッケル ,  強磁性体 ,  *鉄
準シソーラス用語： 磁気エネルギー ,  *電子線ホログラフィー , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 金属の磁区及び磁化過程  (BM06112D)

タイトルに関連する用語 (6件)： 電子ホログラフィー ,  分析 ,  鉄 ,  ニッケル ,  磁壁 ,  温度依存性