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J-GLOBAL ID：201902241550940682   整理番号：19A1415919

Al基金属-誘電体多層構造における鋭いFano共鳴の線形工学【JST・京大機械翻訳】

Line shape engineering of sharp Fano resonance in Al-based metal-dielectric multilayer structure

著者 (6件)： Hayashi S. (Department of Electrical and Electronic Engineering, Graduate School of Engineering, Kobe University, Kobe 657-8501, Japan) ,  Fujiwara Y. (Department of Electrical and Electronic Engineering, Graduate School of Engineering, Kobe University, Kobe 657-8501, Japan) ,  Kang B. (Department of Electrical and Electronic Engineering, Graduate School of Engineering, Kobe University, Kobe 657-8501, Japan) ,  Fujii M. (Department of Electrical and Electronic Engineering, Graduate School of Engineering, Kobe University, Kobe 657-8501, Japan) ,  Nesterenko D. V. (IPSI RAS - Branch of the FSRC “Crystallography and Photonics” RAS, Samara 443001, Russia) ,  Sekkat Z. (Optics and Photonics Center, Moroccan Foundation for Science, Innovation and Research (MAScIR), Rabat 10100, Morocco)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 122  号： 16  ページ： 163103-163103-8  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Al層,SiO_2スペーサ層,およびAl_2O_3導波路層から成る多層構造によって示されたFano線形状について系統的な実験研究を行った。研究した構造において,鋭いFano共鳴がAl/SiO_2界面における表面プラズモンポラリトンの励起に起因する広い非対称共鳴の背景に現れた。背景非対称表面プラズモン共鳴は単一Fano関数に良く適合し,鋭いFano線形状は二つの単一Fano関数の積として表される二重Fano関数に良く適合できることを示した。スペーサ層の厚さを変化させて行った測定の結果は,鋭いFano共鳴の幅(Q因子)が厚さが増加すると単調に減少(増加)することを示した。本研究で達成したQ因子は約1500と高い。電磁計算の結果との比較により,スペーサ層の厚さだけでなく,導波路層の誘電率の虚数部もFano線形状工学において重要な役割を果たすことを示唆した。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 虚数 ,  Q値 ,  誘電率 ,  *Fano共鳴 ,  *線形性 ,  *誘電体 ,  *多層構造 ,  導波路 ,  *共鳴 ,  界面 ,  非対称性
準シソーラス用語： 表面プラズモン共鳴法 ,  表面プラズモンポラリトン ,  一酸化ケイ素 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 電子輸送の一般理論  (BM03020C)

タイトルに関連する用語 (7件)： Al ,  基金 ,  誘電体 ,  多層構造 ,  Fano共鳴 ,  線形 ,  工学