文献

J-GLOBAL ID：201902242592571386   整理番号：19A1997986

線形プラズマ装置NUMBERにおけるプラズマ生成と平行輸送の磁場配位依存性

Magnetic Field Configuration Dependence of Plasma Production and Parallel Transport in a Linear Plasma Device NUMBER

著者 (6件)： HAMADA Daichi (Graduate School of Engineering, Nagoya University) ,  OKAMOTO Atsushi (Graduate School of Engineering, Nagoya University) ,  FUJITA Takaaki (Graduate School of Engineering, Nagoya University) ,  ARIMOTO Hideki (Graduate School of Engineering, Nagoya University) ,  SATOU Katsuya (Graduate School of Engineering, Nagoya University) ,  OCHIAI Ryosuke (Graduate School of Engineering, Nagoya University)
資料名： Plasma and Fusion Research (Web)  (Plasma and Fusion Research (Web))
巻： 13  ページ： 3401044(J-STAGE)  発行年： 2018年 
JST資料番号： U0045A  ISSN： 1880-6821  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高エネルギーイオンを発生させる新しい方法を研究するために,線形プラズマ装置NUMBERを設計し,組み立てた。装置はプラズマ生成領域と軸方向に接続した試験領域で構成される。電子密度と電子温度の径方向分布をLangmuirプローブを用いて測定した。プラズマ半径は磁力線追跡計算と一致した。イオン飽和電流I_isの時間発展を測定した。I_isの急増と急減を伴う高I_is期が観測された。試験領域における磁場のスキャンから,高いI_isは試験領域における予想外の電子サイクロトロン共鳴によって引き起こされる可能性があることがわかった。ガス圧もまた,高いI_isの出現に関連している。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *プラズマ装置 ,  *直線 ,  *プラズマ生成 ,  電子密度 ,  分布 ,  磁力線 ,  磁場配位 ,  *イオン ,  サイクロトロン共鳴 ,  *イオン電流 ,  密度 ,  *Langmuir探針 ,  *イオン飽和電流 ,  *高速イオン ,  動径分布
準シソーラス用語： Langmuirプローブ ,  *高エネルギーイオン ,  *線形プラズマ装置 ,  電子サイクロトロン共鳴 ,  半径方向分布 ,  臨界密度

著者キーワード (5件)： 高エネルギーイオン ,  線形プラズマ装置 ,  電子サイクロトロン共鳴 ,  高密度プラズマ ,  プラズマ生産

分類 (3件)： プラズマ平衡・閉込め  (BJ02070P) ,  プラズマ装置  (BJ02082I) ,  プラズマ診断  (BJ02090L)

引用文献 (6件)：

• [1] S. Inagaki et al., Jpn. J. Appl. Phys. 36, 3697 (1997).
• [2] N. Krause et al., Rev. Sci. Instrum. 73, 3474 (2002).
• [3] J. H. Harris et al., Nucl. Fusion 44, 279 (2004).
• [4] K. Yamazaki et al., J. Plasma Fusion Res. SERIES 8, 1044 (2009).
• [5] M. Tanaka et al., J. Phys. Soc. Jpn. 60, 1600 (1991).

タイトルに関連する用語 (6件)： 線形 ,  プラズマ装置 ,  プラズマ生成 ,  輸送 ,  磁場配位 ,  依存性