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J-GLOBAL ID：201902243162955015   整理番号：19A0179528

ZスキームプロセスによるCdS/BiVO_4ヘテロ構造の高効率光劣化と光触媒水素製造【JST・京大機械翻訳】

High Efficient Photodegradation and Photocatalytic Hydrogen Production of CdS/BiVO₄ Heterostructure through Z-Scheme Process

著者 (3件)： Zou Lei (School of Materials Science and Engineering, Nanjing University of Science and Technology, China) ,  Wang Haoran (School of Materials Science and Engineering, Nanjing University of Science and Technology, China) ,  Wang Xiong (School of Materials Science and Engineering, Nanjing University of Science and Technology, China)
資料名： ACS Sustainable Chemistry & Engineering  (ACS Sustainable Chemistry & Engineering)
巻： 5  号： 1  ページ： 303-309  発行年： 2017年 
JST資料番号： W5047A  ISSN： 2168-0485  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 新しいヘテロ構造CdS/BiVO_4ナノ複合材料を低温水浴システムで作製した。平均サイズが20nmの均一なCdSナノ粒子をBiVO_4ナノシート上に均一に分散させた。BiVO_4とCdSナノ粒子の結合は光触媒活性を著しく促進した。この複合材料は可視光照射下で0.57mmolh(-1)の高いH_2生成速度に達し,純粋なCdSナノ粒子のそれより約5.18倍高かった。光触媒系における主要活性種もラジカル捕捉試験により確認した。計算と実験結果に基づいて,Z方式光触媒機構を提案した。それは電気化学インピーダンス分光法とサイクル試験によってさらに確認した。Z-スキーム光触媒系は,強い還元性と酸化性と優れた安定性を有するCdS/BiVO_4ヘテロ構造を与えた。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 低温 ,  複合材料 ,  スペクトロスコピー ,  ナノシート ,  *硫化カドミウム ,  捕獲 ,  ラジカル ,  酸化 ,  *光触媒 ,  ナノ複合材料 ,  *水素
準シソーラス用語： Z-スキーム ,  可視光照射 ,  光触媒活性 ,  *水素製造 ,  *ヘテロ構造 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 光触媒 ,  CdS/BiVO_4 ,  ヘテロ構造 ,  水素の進化

分類 (1件)： 光化学反応  (CB08020F)

タイトルに関連する用語 (8件)： スキーム ,  プロセス ,  CdS ,  ヘテロ構造 ,  高効率 ,  光劣化 ,  光触媒 ,  水素製造