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J-GLOBAL ID：201902244352867714   整理番号：19A1415241

ポリふっ化ビニリデンに基づく高分子/金属複合材料のパーコレーション挙動の調整におけるプロセス条件のMajorの役割【JST・京大機械翻訳】

Major role of process conditions in tuning the percolation behavior of polyvinylidene fluoride based polymer/metal composites

著者 (1件)： Panda Maheswar (Department of Physics, Dr. Harisingh Gour Central University, Sagar 470003, India)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 111  号： 8  ページ： 082901-082901-5  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 冷間プレスとホットプレス法により調製したポリフッ化ビニリデン(PVDF)/ナノ結晶ニッケル(n-Ni)から成る高分子/金属複合材料(PMC)のパーコレーション挙動を比較した。より低い損失正接(Tanδ)を有するより高い実効誘電率(ε_eff)が,ホットプレス試料と比較して冷間プレス試料で観察された。これはPVDFマトリックス中のn-Niのより良い均一性と均一な分布に起因する。パーコレーションパラメータ[パーコレーション閾値(f_c)と臨界指数(sとs′)]は,プロセス条件の違いにより大きく調整される。非普遍的f_c,s,およびs′をパーコレーション理論の助けを借りて説明した。冷間プレスにより調製したPMCは,静的および低周波誘電応用のためのより良い候補である。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： LF【周波数】 ,  *複合材料 ,  *パーコレーション ,  *ポリフッ化ビニリデン ,  *高分子 ,  ホットプレス ,  臨界指数 ,  損失正接
準シソーラス用語： パーコレーション理論 ,  パーコレーション閾値 ,  実効誘電率 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

タイトルに関連する用語 (7件)： ポリふっ化ビニリデン ,  高分子 ,  複合材料 ,  パーコレーション ,  挙動 ,  プロセス条件 ,  役割