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J-GLOBAL ID：201902244640339525   整理番号：19A1809116

水中でのシリカナノ粒子の疎水化 ナノ構造と乾燥ストレスへの応答【JST・京大機械翻訳】

Hydrophobization of Silica Nanoparticles in Water: Nanostructure and Response to Drying Stress

著者 (8件)： Moro Solenn (ESPCI Paris, CNRS UMR 7615 and UMR 8231, PSL Research University, France) ,  Moro Solenn (UPMC Univ Paris 06, SIMM, Sorbonne-Universites, France) ,  Moro Solenn (Saint-Gobain Recherche, Cedex, France) ,  Parneix Caroline (Saint-Gobain Recherche, Cedex, France) ,  Cabane Bernard (ESPCI Paris, CNRS UMR 7615 and UMR 8231, PSL Research University, France) ,  Sanson Nicolas (ESPCI Paris, CNRS UMR 7615 and UMR 8231, PSL Research University, France) ,  Sanson Nicolas (UPMC Univ Paris 06, SIMM, Sorbonne-Universites, France) ,  d’Espinose de Lacaillerie Jean-Baptiste (ESPCI Paris, CNRS UMR 7615 and UMR 8231, PSL Research University, France)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 33  号： 19  ページ： 4709-4719  発行年： 2017年 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 水性シリカ分散液の構造に及ぼす表面疎水化の影響とこの構造が乾燥応力にどのように影響するかについて報告した。親水性シリカ粒子を,グラフト密度の正確な制御により,一連の有機シラン前駆体を用いて水中で直接疎水化した。得られたナノ構造を小角X線散乱(SAXS)と低温顕微鏡(低温TEM)の組み合わせにより正確に解析した。次に,分散を乾燥により徐々に濃縮し,グラフト密度の関数としてのナノ構造の進展をSAXSにより追跡した。基本レベルでは,シリカ表面の疎水性はグラフト密度の正確な制御により連続的に変化させることができるので,疎水性相互作用が粒子相互作用と凝集体構造をどのように変化させるかを観察することができた。実際に,これは,完全乾燥シリカの最終構造,残留空隙率,および耐湿性特性を調整する新しいルートを開いた。例えば,疎水性前駆体の性質に関係なく,1nmのグラフト密度は溶液中の粒子間相互作用を最適化し,親水性粒子の典型的な値(T=25°C,相対湿度=80%)に比べて,乾燥材料の残留空隙率(0.9cm~3/g)を最大にし,水取込を4%以下に低減した。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 空隙率 ,  最適化 ,  乾燥剤 ,  疎水性 ,  前駆体 ,  *二酸化ケイ素 ,  低温 ,  疎水性相互作用 ,  相互作用 ,  親水性 ,  *ナノ構造 ,  相対湿度
準シソーラス用語： 有機シラン ,  グラフト率 ,  *シリカナノ粒子 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 固-液界面  (CB12050B) ,  コロイド化学一般  (CB11010C) ,  高分子溶液の物理的性質  (CG02013S)

タイトルに関連する用語 (6件)： 水中 ,  シリカナノ粒子 ,  疎水化 ,  ナノ構造 ,  乾燥ストレス ,  応答