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J-GLOBAL ID：201902244691370092   整理番号：19A1414384

Eu_1-xSm_xTiO_3におけるトポロジカルHall効果の証拠【JST・京大機械翻訳】

Evidence of a topological Hall effect in Eu_1-xSm_xTiO₃

著者 (3件)： Ahadi Kaveh (Materials Department, University of California, Santa Barbara, California 93106-5050, USA) ,  Galletti Luca (Materials Department, University of California, Santa Barbara, California 93106-5050, USA) ,  Stemmer Susanne (Materials Department, University of California, Santa Barbara, California 93106-5050, USA)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 111  号： 17  ページ： 172403-172403-4  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： i歴強磁性体Eu_1-xSm_xTiO_3の薄膜における可能なトポロジーHall効果の観測について報告した。EuTiO_3とEu_0.955Sm_0.045TiO_3膜を分子線エピタクシーによって成長させた。EuTiO_3膜は絶縁性である。Eu_0.955Sm_0.045TiO_3膜のHall抵抗率は,Curie温度~5K以下で異常Hall効果を示し,2Kで現れる付加的特徴を示した。これらの特徴は起源が磁気的であり,スキルミオンのようなトポロジー的に自明でないスピン組織をもつ材料系で見られるトポロジー的Hall効果と一致することを示した。結果は,トポロジー的磁気状態,可変同調キャリア密度,および他の現象を組み合わせたエピタキシャルハイブリッドヘテロ構造に対する興味深い可能性を開いた。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 磁気 ,  強磁性体 ,  異常Hall効果 ,  キャリア密度 ,  位相幾何学 ,  *Hall効果 ,  MBE成長 ,  薄膜 ,  スキルミオン
準シソーラス用語： ヘテロ構造 ,  可変同調 ,  磁気状態 ,  Hall抵抗 ,  *トポロジカルHall効果 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  酸化物結晶の磁性  (BM06050E)

タイトルに関連する用語 (2件)： トポロジカルHall効果 ,  証拠