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J-GLOBAL ID：201902244823366408   整理番号：19A2474916

1.3GHz単一および9セル超伝導ニオブ空洞の垂直電解研磨:パラメータ最適化とRF性能【JST・京大機械翻訳】

Vertical electropolishing for 1.3 GHz single- and nine-cell superconducting niobium cavities: A parametric optimization and rf performance

著者 (11件)： Chouhan Vijay (Marui Galvanizing Co., Ltd., Himeji 272-8022, Japan) ,  Kato Shigeki (High Energy Accelerator Research Organization (KEK), Tsukuba 305-0801, Japan) ,  Nii Keisuke (Marui Galvanizing Co., Ltd., Himeji 272-8022, Japan) ,  Yamaguchi Takanori (Marui Galvanizing Co., Ltd., Himeji 272-8022, Japan) ,  Sawabe Motoaki (High Energy Accelerator Research Organization (KEK), Tsukuba 305-0801, Japan) ,  Saeki Takayuki (High Energy Accelerator Research Organization (KEK), Tsukuba 305-0801, Japan) ,  Monjushiro Hideaki (High Energy Accelerator Research Organization (KEK), Tsukuba 305-0801, Japan) ,  Oikawa Hiroki (Utsunomiya University, Utsunomiya 321-8505, Japan) ,  Ito Hayato (SOKENDAI (The Graduate University for Advanced Studies), Tsukuba 305-0801, Japan) ,  Hayano Hitoshi (High Energy Accelerator Research Organization (KEK), Tsukuba 305-0801, Japan) ,  Ida Yoshiaki (Marui Galvanizing Co., Ltd., Himeji 272-8022, Japan)
資料名： Physical Review Accelerators and Beams  (Physical Review Accelerators and Beams)
巻： 22  号： 10  ページ： 103101  発行年： 2019年 
JST資料番号： W5064A  ISSN： 2469-9888  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電解研磨(EP)は,粒子加速器に使用されるニオブ(Nb)超伝導高周波(SRF)空洞の内部表面の処理のための標準的なプロセスである。著者らは以前に,1.3GHz Nb単セル空洞のEPの間に空洞が垂直にセットされた垂直電気研磨(VEP)に関する研究を行った。本研究において,VEPにおける非対称除去の主な原因は,空洞の上部半セル上のEPプロセス中に発生する水素気泡の蓄積であることを示した。非対称除去と粗面の問題を解決する目的で,3種類の独特の回転カソードを試験した。適切なカソード設計とパラメータはセル中の非対称除去を低減し,空洞の滑らかな表面をもたらした。本研究では,修飾陰極を有する単一および9セルNb1.3GHz空洞の両方のVEPに関する広範な研究を行った。単一および9セルのクーポン空洞を有するVEPパラメータを調べ,空洞の種々の位置におけるクーポン電流のその場研究およびキャビティの虹彩および赤道位置の近くに位置するビューポートからの観測を容易にした。単一セル空洞のための改良カソードと最適化VEPプロセスは,空洞セルと空洞の内部の滑らかな表面において一様な除去をもたらした。空洞内の酸流と陰極ハウジングの分離を可能にする新しい酸流法を,空洞からの気泡を効率的に除去するために,9セル空洞で使用した。温度,陰極回転速度,および印加電圧を含む他の適切なパラメータと共に,空洞および陰極ハウジングにおける最適化された酸流量は,表面を滑らかにし,9セル空洞における除去不均一性を著しく減少させた。46および[数式:原文を参照]の平均除去後の単一および9細胞空洞を,それぞれ垂直クライオスタットで試験した。単一および9セル空洞は,2Kの温度でのrf試験において,それぞれ,[数式:原文を参照]の[数式:原文を参照]値で,[数式:原文を参照]および[数式:原文を参照]の[数式:原文を参照]値で,[数式:原文を参照]を達成した。達成されたSRF性能は,同じ空洞の水平電気研磨プロセス後に達成されたベースライン性能と同様に良好であった。Copyright 2019 The American Physical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *超伝導 ,  回転数 ,  電流 ,  *研磨 ,  非対称性 ,  *最適化 ,  加速器 ,  水素 ,  虹彩 ,  流量 ,  カソード ,  粗面 ,  *電解研磨
準シソーラス用語： 印加電圧 ,  単セル , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： その他の表面処理  (WC08070F) ,  その他の超伝導応用装置  (BM04044V)

タイトルに関連する用語 (8件)： セル ,  超伝導 ,  ニオブ ,  空洞 ,  垂直 ,  電解研磨 ,  パラメータ最適化 ,  RF