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J-GLOBAL ID：201902244870940583   整理番号：19A1415925

磁化マイクロ放電における金属壁に及ぼす電子過程の影響【JST・京大機械翻訳】

The effect of electron processes on metal walls in magnetized microdischarges

著者 (2件)： Levko Dmitry (Department of Aerospace Engineering and Engineering Mechanics, The University of Texas at Austin, Austin, Texas 78712, USA) ,  Raja Laxminarayan L. (Department of Aerospace Engineering and Engineering Mechanics, The University of Texas at Austin, Austin, Texas 78712, USA)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 122  号： 16  ページ： 163301-163301-7  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 磁化電子と非磁化イオンによるマイクロ放電に及ぼす電子衝撃による電子反射と二次電子放出の影響を,一次元Particle-in-Cellモンテカルロ衝突モデルを用いて解析した。低いガス圧(10Torr以下)では,壁上の電子過程を説明することにより,破壊電圧が著しく低下し,プラズマ密度と放電電流の両方を増加させることができる。非常に高密度のプラズマの発生は,放出電子のLarmor半径がシースの厚さより数倍大きくなるように,陰極シースを収縮させる。これにより,高密度プラズマの領域が陽極に向かって膨張し,イオン化不安定性の周波数が減少し,陰極-陽極ギャップで得られた条線の数が減少した。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： イオン化 ,  プラズマ ,  一次元 ,  *磁化 ,  アノード ,  モンテカルロ法 ,  カソード ,  二次電子放出 ,  プラズマ密度 ,  不安定性 ,  モデル
準シソーラス用語： 放電電流 ,  絶縁破壊電圧 ,  ガス圧 ,  *マイクロ放電 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： プラズマ一般  (BJ02010B)

タイトルに関連する用語 (5件)： 磁化 ,  マイクロ放電 ,  金属壁 ,  電子 ,  過程