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J-GLOBAL ID：201902246827212092   整理番号：19A1458350

固体中の19F NMRにより研究したTiF_4における末端および架橋フッ素配位子【JST・京大機械翻訳】

Terminal and bridging fluorine ligands in TiF₄ as studied by ¹⁹F NMR in solids

著者 (3件)： Murakami Miwa (Office of Society-Academia Collaboration for Innovation, Kyoto University, Gokasho, Uji, Kyoto, 611-0011, Japan) ,  Noda Yasuto (Graduate School of Science, Kyoto University, Kitashirakawa Oiwakecho, Sakyo-ku, Kyoto, 606-8502, Japan) ,  Takegoshi K. (Graduate School of Science, Kyoto University, Kitashirakawa Oiwakecho, Sakyo-ku, Kyoto, 606-8502, Japan)
資料名： Solid State Nuclear Magnetic Resonance  (Solid State Nuclear Magnetic Resonance)
巻： 101  ページ： 82-88  発行年： 2019年 
JST資料番号： W0483A  ISSN： 0926-2040  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 金属配位系におけるフッ素配位子の結合性を調べるために,19F高分解能固体NMRをTiF_4に適用した。これは橋かけ及び末端フッ素の両方を有する。観測された12の等方性信号は,密度汎関数理論(DFT)を用いて計算された等方性シフトを参照することにより,TiF_4中の12の結晶学的に異なるフッ素(6つの末端と6つの架橋フッ素)に帰属される。末端F(F_T)に対する等方性化学シフト(δ_iso)は,大きな遮蔽異方性Δσ~850ppmを有する高周波数(δ(CCl_3F)=0ppmから420~480ppm)に現れた。一方,架橋F(F_B)のδ_isoとΔσ値は中程度である。δ_iso~0~25ppmとΔσ~250ppm。F_Tに対する観測された高周波シフトの起源は,共有結合性の増加,Ti-F結合の短縮,占有軌道と空軌道の間のより小さいエネルギー差による二次常磁性シフトに起因する。分子構造に対する遮蔽テンソルの配向の検討は,遮蔽テンソルの最も遮蔽された成分がTi-F結合に沿って配向していることを示した。特性配向は,Tiのd_YZとFのp_zによって形成されたTi-Fσ結合と一致した。さらに,選択的に観測されたスピニング側波帯パターンと計算されたΔσとη(遮蔽非対称)値を持つ理論パターンはF_Bに対して互いに一致せず,Δσの評価における現在のDFT計算の欠陥を示した。Copyright 2019 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 側波帯 ,  非対称性 ,  *フッ素 ,  テンソル ,  等方性 ,  周波数シフト ,  *チタン ,  エネルギーギャップ ,  化学シフト ,  *NMR【磁気共鳴】 ,  異方性 ,  常磁性 ,  密度汎関数法 ,  分子構造
準シソーラス用語： σ結合 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： TiF_4 ,  19F化学シフト異方性 ,  DFT ,  回転側波帯 ,  回転同期Dante

分類 (2件)： 有機化合物のNMR  (BM07044Q) ,  錯体のNMR  (BM07045H)

タイトルに関連する用語 (6件)： 固体 ,  NMR ,  研究 ,  架橋 ,  フッ素 ,  配位子