原子的に定義された酸化コバルト表面へのカルボキシル官能化ノルボルナジエン誘導体のアンカリング【JST・京大機械翻訳】

Schwarz Matthias; Mohr Susanne; Xu Tao; Doepper Tibor; Weiss Cornelius; Civale Katharina; Hirsch Andreas; Goerling Andreas; Goerling Andreas; Libuda Joerg; Libuda Joerg

文献

J-GLOBAL ID：201902247319899839 整理番号：19A1887443

原子的に定義された酸化コバルト表面へのカルボキシル官能化ノルボルナジエン誘導体のアンカリング【JST・京大機械翻訳】

Anchoring of a Carboxyl-Functionalized Norbornadiene Derivative to an Atomically Defined Cobalt Oxide Surface

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資料名：
巻： 121 号： 21 ページ： 11508-11518 発行年： 2017年
JST資料番号： W1877A ISSN： 1932-7447 CODEN： JPCCCK 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

原子的に定義された酸化物表面への分子エネルギーキャリアノルボルナジエン(NBD)の固定化を調べた。この目的のために,カルボキシル官能化NBD誘導体,すなわち1-(2′-ノルボルナジエニル)-ペンタン酸(NBDA)を合成し,Ir(100)上に成長させた良く秩序化したCo_3O_4(111)膜上に超高真空(UHV)条件下で物理蒸着(PVD)により堆積した。さらに,参照として用いた同一条件下での安息香酸(BA)との比較成長研究を行った。酸化物表面によるNBDAとBAの相互作用と配向を,多層脱着温度の下と上の両方で等温時間分解赤外反射吸収分光法(TR-IRAS)による膜成長の間,その場モニターした。膜の熱的挙動と安定性を,密度汎関数(DF)計算の助けを借りて,昇温IRAS(TP-IRAS)によって研究した。BaはCo_3O_4(111)に結合し,分子面が表面にほぼ垂直に配向した対称キレート化カルボン酸塩の形成下にあった。低温(130K)では,完全なBAは飽和単分子層の上に二量体の形で物理吸着する。155Kへのアニーリングにより,多層中のBAがより平坦な配向をとる再秩序化転移が観察された。BA多層は220Kで脱着するが,表面固定BA単分子層は400Kまで安定である。より高い温度(400~550K)では,脱着と分解が観察された。BAと非常に類似して,NBDAは対称キレート化カルボン酸塩の形成によりCo_3O_4(111)に結合した。240Kで脱着する多層では,水素結合NBDA二量体が形成される。300KでのNBDAのPVDでは,表面固定カルボン酸のみが安定であった。固定したNBDA膜は被覆率の関数として特徴的な再構成挙動を示した。低被覆率では,NBDAは,ノルボルナジエン単位がCo_3O_4表面と相互作用する平坦な構造をとる。被覆率が増加すると,ノルボルナジエン単位は酸化物から離脱し,NBDAは直立配向をとる。BAと同様に,固定膜は400Kまで安定で,400~550Kの温度領域で分解し,酸化物表面上の炭化水素残留物の背後に残った。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

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物理的手法を用いた吸着の研究

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