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J-GLOBAL ID：201902247563239938   整理番号：19A1873323

赤外光源放出用のMDMメタ材料から作られた偏光選択吸収体

Polarization-selective absorbers made of MDM metamaterials for infrared source emission

著者 (7件)： SUN Xuebo (Qufu Normal Univ., Qufu, CHN) ,  ZHANG Xia (Qufu Normal Univ., Qufu, CHN) ,  SYED Mohsin Ali Shah (Beijing Univ. Posts and Telecommunications, Beijing, CHN) ,  QI Limei (Beijing Univ. Posts and Telecommunications, Beijing, CHN) ,  DONG Xin (Qufu Normal Univ., Qufu, CHN) ,  LI Yan (Qufu Normal Univ., Qufu, CHN) ,  SU Fufang (Qufu Normal Univ., Qufu, CHN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 58  号： 6  ページ： 065005.1-065005.6  発行年： 2019年06月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,マスクレスリソグラフィー技術を用いて,異なる側面長をもつ一連の正方形Ag/SiN/Ag磁気吸収体を作製した。多重吸収ピークが発生し,それらの場分布シミュレーションの助けを借りて解析した。第一と第三の磁気共鳴モードから生じる吸収ピークは,側面長さを変えることにより任意に変調できた。磁気吸収体は強い吸収,偏光選択性および任意の調整安定性を示した。第一の磁気共鳴モードによって支配される吸収ピークは高い偏光選択性を有するが,SiNのフォノンによって支配される吸収ピークは偏光不感であった。このような磁性メタ材料はレーザ技術と光学素子応用を進歩させる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *赤外光源 ,  *人工材料 ,  偏光 ,  *吸収体 ,  *リソグラフィー ,  銀 ,  窒化ケイ素 ,  計算機シミュレーション ,  磁気共鳴 ,  *磁性材料 ,  フォノン
準シソーラス用語： *メタ材料 ,  *マスクレスリソグラフィー

分類 (1件)： 電気光学効果,磁気光学効果  (BM08020L)

引用文献 (60件)：

• C. Argyropoulos, K. Q. Le, N. Mattiucci, G. D'Aguanno, and A. Alu, “Broadband absorbers and selective emitters based on plasmonic Brewster metasurfaces,” Phys. Rev. B 87, 2329 (2012).
• V. S. Asadchy, Y. Ra'di, J. Vehmas, and S. A. Tretyakov, “Functional metamirrors using bianisotropic elements,” Phys. Rev. Lett. 114, 095503 (2015).
• S. Ayas, G. Bakan, and A. Dana, “Rounding corners of nano-square patches for multispectral plasmonic metamaterial absorbers,” Opt. Express 23, 11763 (2015).
• K. Aydin, V. E. Ferry, R. M. Briggs, and H. A. Atwater, “Broadband polarization-independent resonant light absorption using ultrathin plasmonic super absorbers,” Nat. Commun. 2, 517 (2011).
• E Blanche, M. Shimizu, A. Kohiyama, H. Yugami, P. O. Chapuis, and R. Vaillon, “Spectrally shaping high-temperature radiators for thermopho-tovoltaics using Mo-HfO₂ trilayer-on-substrate structures,” Opt. Express 26, 4346 (2018).

タイトルに関連する用語 (5件)： 赤外光源 ,  放出 ,  メタ材料 ,  偏光 ,  吸収体