抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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ピコ秒レーザーパルスの時間的なエネルギー変調によって,不均一な応力分布やクラックを発生させることなく,ガラス内部の局所溶融が可能である。溶融領域周辺の応力分布を均一化することで,クラックの発生しきい値を,変調なしの場合の16.5μJから22.0μJに増加でき,結果として,クラックを発生させずに局所溶融領域の幅を約1.3倍にすることができた。さらに,本手法によって,レーザー光の照射方向への加工痕の伸びを抑制することにも成功した。これは,レーザーパルスの時間的なエネルギー変調によって,レーザー集光部近傍に発生するプラズマの挙動の時間的な制御が可能であることを示唆していると考えられる。(著者抄録)