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J-GLOBAL ID:201902250047794935   整理番号:19A2650719

不飽和炭化水素と水素の生成 Re(III)単位を含む混合金属酸化物構造のALDにおけるメチルトリオキソレニウム(VII)の表面化学【JST・京大機械翻訳】

Formation of Unsaturated Hydrocarbons and Hydrogen: Surface Chemistry of Methyltrioxorhenium(VII) in ALD of Mixed-Metal Oxide Structures Comprising Re(III) Units
著者 (8件):
資料名:
巻: 31  号: 19  ページ: 7821-7832  発行年: 2019年 
JST資料番号: T0893A  ISSN: 0897-4756  CODEN: CMATEX  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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混合レニウム-アルミニウム酸化物の原子層堆積(ALD),すなわち,導電性レニウム酸化物の構築単位,ReO_xから成る調整可能な抵抗を有する材料,の完全な研究を提示した。メチル-トリオキソレニウム-(VII(MeReO_3,MTO)及びトリメチルアルミニウム(TMA)を含む沈着を,相補的in situ診断水晶微量天秤(QCM),Fourier変換赤外(FT-IR)分光法及び四重極質量分析(QMS)を用いて分析し,この材料の基礎となる成長機構を明らかにした。提案した機構は還元的除去ステップを含み,それにより安定なRe-(III)含有薄膜を生成し,このALDプロセスをその成長に関してユニークにした。さらに,QMSによって証明されたように,表面反応は水素と不飽和炭化水素の形成を含む。この簡単なプロセスから,150°Cの低い温度で4.5Åサイクル~-1の異常に高い成長速度が得られた。この材料は抵抗の低い熱係数(TCR)に関して高い抵抗率と組み合わせて非常に有望な電気的性質を示すことが分かった。Al_2O_3の追加層(1,2,または3)と実際の_2O_3CH_3の薄膜を混合することにより,3.9×10~6~1.5×10~11Ωcmの範囲の電気抵抗率を微調整できた。同時に,TCRは約-0.014°C~-1に低下し,この材料は広い温度範囲にわたって非常に抵抗性が高く,例えば多チャネルプレート(MCPs)のような先進的検出器応用のための有望な候補である。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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金属薄膜  ,  酸化物薄膜 

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