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J-GLOBAL ID:201902250832730463   整理番号:19A1607226

低温におけるSOI横型IGBTのチャネルオフアバランシェ不安定性:機構と最適化スキーム【JST・京大機械翻訳】

Channel-off Avalanche Instability in SOI Lateral IGBT at Low Temperature: Mechanism and Optimization Schemes
著者 (11件):
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巻: 2019  号: ISPSD  ページ: 387-390  発行年: 2019年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本論文では,オフ状態アバランシェ安定性を調べ,SOI横方向IGBTにおいて-40°Cで時間依存アバランシェ不安定性を観測した。TCADシミュレーションからの結果と測定結果を組み合わせて,雪崩不安定性のメカニズムを明らかにした。不安定雪崩現象を抑制または除去するために,2つの最適化方式を提案した。不安定アバランシェは,厚い埋め込み酸化物層を採用することにより抑制でき,V_CEシフトは54Vから11Vに低減できる。もう一つの方式は,P型基板をN型基板に置き換えることであり,次に,V_CEシフトを完全に除去することができる。Copyright 2019 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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