文献
J-GLOBAL ID:201902253479610376   整理番号:19A1128561

酸化物-基板界面抵抗の修飾による擬容量マンガン酸化物のNyquistプロット半円の最小化【JST・京大機械翻訳】

Minimizing the Nyquist-plot semi-circle of pseudocapacitive manganese oxides through modification of the oxide-substrate interface resistance
著者 (2件):
資料名:
巻: 426  ページ: 93-96  発行年: 2019年 
JST資料番号: B0703B  ISSN: 0378-7753  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
マンガン酸化物は電気化学キャパシタ用の有望な擬容量材料であり,電気化学インピーダンス分光法を用いてそれらの静電容量,抵抗および周波数応答を特性化することができる。しばしば,普遍的ではないが,これらの材料のNyquistプロットは半円形の特徴を示し,それは典型的には擬容量性反応の電荷移動抵抗に起因する。しかし,半円形の起源が実際に酸化物-基板界面抵抗であることを初めて示した。界面は酸化マンガンの熱処理と種々の金属(ステンレス鋼と白金)上に酸化マンガンを電着することにより変化させた。さらに,界面上に酸化マンガンの薄層が熱処理されるが,膜のバルクは界面と擬容量応答を分離する。低い界面抵抗(例えば熱処理界面またはPt上に蒸着)を有する膜は,低い界面(熱処理なしのステンレス鋼上に堆積した膜)を有するものより98%小さい半円を示した。逆に,擬静電容量と半円形サイズの間に相関はなかった。このように,Nyquist半円は界面抵抗と関連し,この界面の適切な修正はこの抵抗に関連する性能限界を低減できる。Copyright 2019 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
燃料電池 

前のページに戻る