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J-GLOBAL ID：201902253963768843   整理番号：19A1809521

双性イオン性ポリ(スルホベタイン)ブラシの水和状態に及ぼす荷電基スペーサ長の影響【JST・京大機械翻訳】

Effect of Charged Group Spacer Length on Hydration State in Zwitterionic Poly(sulfobetaine) Brushes

著者 (16件)： Higaki Yuji (Institute for Materials Chemistry and Engineering, Kyushu University, Japan) ,  Higaki Yuji (International Institute for Carbon-Neutral Energy Research (WPI-I2CNER), Kyushu University, Japan) ,  Higaki Yuji (Graduate School of Engineering, Kyushu University, Japan) ,  Higaki Yuji (Japan Science and Technology Agency (JST), ERATO, Takahara Soft Interfaces Project, CE80, Kyushu University, Japan) ,  Inutsuka Yoshihiro (Graduate School of Engineering, Kyushu University, Japan) ,  Sakamaki Tatsunori (Graduate School of Engineering, Kyushu University, Japan) ,  Terayama Yuki (Graduate School of Engineering, Kyushu University, Japan) ,  Takenaka Ai (Japan Science and Technology Agency (JST), ERATO, Takahara Soft Interfaces Project, CE80, Kyushu University, Japan) ,  Higaki Keiko (International Institute for Carbon-Neutral Energy Research (WPI-I2CNER), Kyushu University, Japan) ,  Yamada Norifumi L. (Neutron Science Laboratory, High Energy Accelerator Research Organization, Japan) ,  Moriwaki Taro (Japan Synchrotron Radiation Research Institute/SPring-8, Hyogo, Japan) ,  Ikemoto Yuka (Japan Synchrotron Radiation Research Institute/SPring-8, Hyogo, Japan) ,  Takahara Atsushi (Institute for Materials Chemistry and Engineering, Kyushu University, Japan) ,  Takahara Atsushi (International Institute for Carbon-Neutral Energy Research (WPI-I2CNER), Kyushu University, Japan) ,  Takahara Atsushi (Graduate School of Engineering, Kyushu University, Japan) ,  Takahara Atsushi (Japan Science and Technology Agency (JST), ERATO, Takahara Soft Interfaces Project, CE80, Kyushu University, Japan)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 33  号： 34  ページ： 8404-8412  発行年： 2017年 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 水和状態に及ぼす双性イオン性ポリ-(スルホベタイン)(PSB)ブラシ中の荷電基(CSL)間のアルキル鎖スペーサ長の影響を調べた。シリコンウエハ上での表面開始原子移動ラジカル重合により,エチル(PMAEs),プロピル(PMAPS)またはブチル(PMABs)CSLを有するPSBブラシを調製した。水溶液および/または湿った蒸気中のPSBブラシの水和状態を接触角測定,赤外分光法,AFM観察および中性子反射率によって調べた。PSBブラシは,水和PSBブラシ/水界面自由エネルギーの減少をもたらす荷電基の水和により,湿った空気と脱イオン水で膨潤した。水和PSBブラシは,SBの会合によるPSBブラシ鎖のネットワーク化により,低い界面粗さを有する明確な界面を示した。水和PSBブラシは電荷スクリーニングのためにNaClの存在下で拡散性膨潤層を生成し,それに続いて結合イオンによるSB解離が生じた。水和におけるイオン強度感度は,荷電基分離による部分電荷の増大により,SBにおけるCSLの増加により,より顕著になった。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *双性イオン ,  *スペーサ ,  スクリーニング ,  塩化ナトリウム ,  接触角 ,  原子移動ラジカル重合 ,  水溶液 ,  *電荷 ,  *イオン ,  膨潤 ,  アルキル基 ,  *ブラシ ,  *水和 ,  界面
準シソーラス用語： シリコンウエハ , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 固-液界面  (CB12050B) ,  高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

タイトルに関連する用語 (6件)： 双性イオン ,  スルホベタイン ,  ブラシ ,  水和 ,  荷電 ,  スペーサ